反应溅射

我们提供合适的钨和钨合金溅射靶，可用于生产智能窗户中的电致变色层。我们的客户使用这些靶材，通过反应溅射工艺来生产智能窗户的电致变色氧化钨和钨合金氧化物层。在正常状态下，电致变色层是无色透明的

可适配于RLS系列射频电源使用，广泛应用于等离子刻蚀、镀膜、等离子清洗、等离子去胶等工艺。单独使用时，可与其他厂家射频电源配套使用。 RHH系列射频电源依靠成熟的射频发生技术为基础，为客户提供更大的功率、精度更高、响应快速的射频电源

该设备为高真空ITO箱式镀膜设备，主要用于沉积AZO、GZO等系列透明导电膜，金属薄膜，半导体薄膜等，也可用于其他功能性薄膜的沉积。 1. 系统可实现ITO、AZO、GZO等系列透明导电膜的研究与工艺探索； 2. 可以完成单金属、合金、多层膜的溅射沉积； 3. 可以完成氧化物、氮化物、碳化物等介质膜的反应溅射沉积； 4. 可以实现SiO2、Al2O3等绝缘材料的溅射沉积； 5. 可以进行含有上述多层膜的功能膜研究开发； 1、双腔室结构（含工艺腔室及进出样室）； 2、最大溅射样品尺寸约450×250mm； 3、磁控溅射靶四支，其中两支为孪生靶，控制电源为两套直流电源和一套中频电源； 7、加热及温控系统，保证腔室能够加热至500℃；

主要方式是什么？接下来小编为大家介绍一下，希望对大家能有所帮助。 磁控溅射镀膜机可按其特点分为四大类：(1)直流溅射；(2)射频溅射；(3)磁控溅射；(4)反应溅射.此外，各种离子束源还可用于薄膜的溅射沉积。 当前直流溅射(又称二次溅射)应用较少，是由于高气压、高电压、低溅射率和膜层不稳定等缺点所致

耐高温视窗玻璃采用了光学薄膜干涉原理，通过真空磁控反应溅射先进工艺在玻璃基板上镀制一定膜系结构的纳米光学多层膜，将玻璃可见光透过率由89％提高到98％以上，表面反射光由8％下降到1％以下，外强光下高透无反射，防眩光，大幅度提高平板显示器在强光环境中的对比度和清晰度，同时部分提高显示器的亮度，有高清润眼功能。内窥镜玻璃采用AR玻璃，可以起到减反射增透的效果。 采用了光学薄膜干涉原理，通过真空磁控反应溅射先进工艺在玻璃基板上镀制一定膜系结构的纳米光学多层膜，将玻璃可见光透过率由89%提高到98%以上，表面反射光由8%下降到1%以下，外强光下高透无反射，防眩光，大幅度提高平板显示器在强光环境中的对比度和清晰度，同时部分提高显示器的亮度，有高清润眼功能

电学样品台可用于材料表面形貌分析，微区形貌观察，各种材料形状、大小、表面、断面、粒径分布分析，以及各种薄膜样品表面形貌观察、薄膜粗糙度及膜厚分析。 离子溅射镀膜是电学样品台常用的一个方法，在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极（靶）和阳极（试样）间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。对于任何待镀材料，只要能做成靶材，就可实现溅射，溅射方法有四种：直流溅射、射频溅射、磁控溅射、反应溅射

真空镀膜机主要是指需要在高真空下进行的镀膜，包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机、分子束外延镀膜机和PLD激光溅射镀膜机。主要分为蒸发和溅射。 在真空镀膜设备中，需要镀膜的材料成为基体，被镀膜的材料成为靶材

据溅射过程中，溅射气体与镀膜材料之间是否发生化学反应，又分为非反应溅射和反应溅射。非反应溅射过程必须使用惰性气体（一般为Ar气），靶材也要具有足够的导电性。设备结构，主要包括真空室、溅射气体人口、真空系统、溅射装置、用于起辉的电源(200〜5000V)，以及基片架

减反膜小课堂讲解：磁控溅射的溅射镀膜相关知识？ 磁控溅射的溅射镀膜你知道是什么吗？下面就跟着减反膜小编一起来简单的了解看看吧！ 溅射镀膜是一种利用高能粒子在真空中轰击靶材表面的技术，使被轰击的粒子沉积在基材上。 通常，低压惰性气体辉光放电用于产生入射离子。 阴极靶由涂层材料制成，衬底用作阳极，并将0.1-10Pa的氩气或其他惰性气体引入真空室，阴极（靶）1-3KV直流负高压或13.56 MHz射频电压产生明亮的光放电