射频溅射
主要方式是什么?接下来小编为大家介绍一下
主要方式是什么?接下来小编为大家介绍一下,希望对大家能有所帮助。 磁控溅射镀膜机可按其特点分为四大类:(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射.此外,各种离子束源还可用于薄膜的溅射沉积。 当前直流溅射(又称二次溅射)应用较少,是由于高气压、高电压、低溅射率和膜层不稳定等缺点所致
主要方式是什么?接下来小编为大家介绍一下,希望对大家能有所帮助。 磁控溅射镀膜机可按其特点分为四大类:(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射.此外,各种离子束源还可用于薄膜的溅射沉积。 当前直流溅射(又称二次溅射)应用较少,是由于高气压、高电压、低溅射率和膜层不稳定等缺点所致