溅射

在当今电子行业，很多的电子元器件都要使用真空镀膜工艺，虽然我国的真空镀膜技术起步较晚，但发展的十分迅速。真空镀膜已经成为电子元器件制造的一项不可或缺的技术。所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺

立式无油往复真空泵是一个机械真空泵，可以在没有任何油润滑的情况下工作。立式无油往复真空泵耐用性好，是抽真空、压缩、真空的两用泵，是应用范围非常广泛的基础设备。 立式无油往复真空泵选型注意考虑以下因素： 1.泵的工作压力满足真空设备的极限真空和工作压力要求

可适配于RLS系列射频电源使用，广泛应用于等离子刻蚀、镀膜、等离子清洗、等离子去胶等工艺。单独使用时，可与其他厂家射频电源配套使用。 RHH系列射频电源依靠成熟的射频发生技术为基础，为客户提供更大的功率、精度更高、响应快速的射频电源

脉冲式射频 GD-OES 是磁控溅射沉积的理想配套分析工具。磁控溅射是等离子气相沉积的一种，PVD镀膜机的真空室充满惰性气体（例如氩气），通过施加高电压（RF、HIPIMS 等）产生辉光放电，离子加速到目标表面和等离子涂层，氩离子溅射靶材表面材料，从而在衬底上形成膜层。可以使用其他类型的气体（例如氮气或乙炔），它们会与溅射的材料发生反应，使用这种 PVD ​​技术可以实现大面积镀膜

该设备为高真空ITO箱式镀膜设备，主要用于沉积AZO、GZO等系列透明导电膜，金属薄膜，半导体薄膜等，也可用于其他功能性薄膜的沉积。 1. 系统可实现ITO、AZO、GZO等系列透明导电膜的研究与工艺探索； 2. 可以完成单金属、合金、多层膜的溅射沉积； 3. 可以完成氧化物、氮化物、碳化物等介质膜的反应溅射沉积； 4. 可以实现SiO2、Al2O3等绝缘材料的溅射沉积； 5. 可以进行含有上述多层膜的功能膜研究开发； 1、双腔室结构（含工艺腔室及进出样室）； 2、最大溅射样品尺寸约450×250mm； 3、磁控溅射靶四支，其中两支为孪生靶，控制电源为两套直流电源和一套中频电源； 7、加热及温控系统，保证腔室能够加热至500℃；

简要描述：脉冲激光外延制备系统凭借着优异的性能 PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内外拥有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章，用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金属/氧化物外延生长。 凭借着优异的性能 PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内外拥有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。 PVD公司是美国主要制造商，是一家专业从事脉冲激光沉积分子束外延（PLD MBE）和超高真空薄膜沉积系统及组件的设计和制造的公司，提供超高真空薄膜沉积系统，应用于分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积

液氩是一种无色、无味、无臭、无毒的液态惰性气体，化学性质极不活泼。不燃烧，无毒，但人体吸入易窒息。无腐蚀性

（1）保护气体可以保护激光头镜片免受金属蒸气污染和液体熔滴的溅射。 （2）金属蒸气吸收激光束电离成等离子云。如果等离子体存在过多，激光束在某种程度上被等离子体消耗

高真空镀布设备是由真空系统、卷绕系统、磁控靶溅射系统、控制系统等部分组成，抽速快、排气量大、真空度高、能耗较低，集效率高、稳定、节能于一身，可实现在布、 高真空镀布设备是由真空系统、卷绕系统、磁控靶溅射系统、控制系统等部分组成，抽速快、排气量大、真空度高、能耗较低，集效率高、稳定、节能于一身，可实现在布、海绵等卷材上溅镀铜、铬、钛、银等，无褶皱，保障了产品质量。 它是一种应用于纺织品行业、电子行业的镀布、镀海绵设备，包括如下几个步骤：准备靶材，采用磁控溅射镀布设备进行真空镀，可设置铜靶、钛靶、银靶等多种靶材，进行多靶位或者单靶位的溅射镀覆，镀布卷速为1～15米/分钟，布匹镀宽为500～1700mm，卷径可达到Φ500～Φ1300mm，成品无褶皱，保障产品质量，保障布匹、海绵等卷材的刚柔性、可裁剪和缝纫性等，可规模化应用于纺织品行业、电子行业。 青州市中拓镀膜机械科技有限公司有着丰富的生产经验，欢迎新老客户来公司参观考察，洽谈合作

电导率是以数字表示溶液传导电流的能力。水的电导率与其所含无机酸、碱、盐的量有一定的关系，当它们的浓度较低时，电导率随着浓度的增大而增加，因此，该指标常用于推测水中离子的总浓度或含盐量。 电导率仪主要是测液体介质之间传递电流能力的仪器，一般用于电力、化工、冶金、环保、制药、野外、湖泊、科研、食品和自来水等溶液中电导率值（TDS）的连续监测，同时在水处理，水产养殖试验方面也有应用