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脉冲式射频 GD-OES 是磁控溅射沉积的理想配套分析工具。磁控溅射是等离子气相沉积的一种，PVD镀膜机的真空室充满惰性气体（例如氩气），通过施加高电压（RF、HIPIMS 等）产生辉光放电，离子加速到目标表面和等离子涂层，氩离子溅射靶材表面材料，从而在衬底上形成膜层。可以使用其他类型的气体（例如氮气或乙炔），它们会与溅射的材料发生反应，使用这种 PVD ​​技术可以实现大面积镀膜