刻蚀
半导体装备制造业是为我国集成电路和半导体器件行业提供工艺装备的战略性产业，是提升我国半导体产业制造能力的高端装备制造产业，也是国家支持的重大技术装备产业。 半导体装备制造业是为我国集成电路和半导体器件行业提供工艺装备的战略性产业，是提升我国半导体产业制造能力的高端装备制造产业，也是国家支持的重大技术装备产业。中国电子专用设备工业协会常务副秘书长金存忠表示，目前我国光伏设备以及LED设备目前已经基本上全面本土化，集成电路设备目前相比较而言依赖于进口较多
本产品选用多种有机溶剂和表面活性剂制成水包油型乳液，是精密铸造业中的蜡模专用清洗剂。具有以下优点： 一、本产品的清洗作用是溶剂的刻蚀功能与乳化剂的亲水亲油作用共同完成的，它是一种综合效应，比单一的溶剂清洗剂的清洗效果好。 二、本产品是水分散型清洗剂，降低了有机溶剂的挥发性，改善了劳动环境，有利于职工身体健康，且使用寿命长
光刻机和蚀刻机一直都是当前最热的话题，可以说光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，要想制造高端的芯片，这两个东西都必须顶尖。那它们俩有什么区别呢？最简单的解释就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面，刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉，这样看起来似乎没什么难的，但是有一个形象的比喻，每一块芯片上面的电路结构放大无数倍来看比整个北京都复杂，这就是这光刻和蚀刻的难度。 光刻的过程就是先在制作好的硅圆表面涂上一层光刻胶（一种可以被光腐蚀的胶状物质），接下来通过光线（工艺难度紫外光＜深紫外光＜极紫外光）透过掩膜照射到硅圆表面（类似投影），因为光刻胶的覆盖，照射到的部分被腐蚀掉，没有光照的部分被留下来，这部分便是需要的电路结构
3D打印技术介绍，3D 打印材料多为高分子聚合物材料，所以专注分享高分子材料、聚合物材料和新材料的3D打印技术和3D打印材料进展。 橡胶助剂，塑料助剂，涂料助剂等各种高分子材料助剂。 亚化咨询：SABIC专家将出席9月底舟山聚碳酸酯会议，介绍新型可再生PC材料、PC在食品医疗领域最新解决方案等！ 亚化咨询：BPA会成PC扩张的瓶颈吗? 演讲报告征集-第五届聚碳酸酯技术与市场研讨会2020 1、【新技术解决金属塑料接合问题】科研人员受到半导体刻蚀技术启发，通过刻蚀金属材料表面实现金属与金属、金属与塑料、塑料与塑料的免胶黏剂接合，粘合强度优异，各种材料之间普遍适用
光纤激光器近年来成为激光物理研究的一个热门，它被一致认为是有可能全面替代固体激光器的新一代产品。光纤激光器是指用掺稀土元素玻璃光纤作为增益介质的激光器，光纤激光器可在光纤放大器的基础上开发出来：在泵浦光的作用下光纤内极易形成高功率密度，造成激光工作物质的激光能级“粒子数反转”，当适当加入正反馈回路(构成谐振腔)便可形成激光振荡输出。光纤激光打标机是利用激光束在各种不同的物质表面打上长时间的标记
利用反应离子束刻蚀设备制备了硅基的两维空气柱光子晶体，并用红外显微镜测试了样品的 反射谱. 理论上用时域有限差分(FDTD)方法计算了样品的光子带隙，从测试结果看光子带隙 和理论计算的光子带隙符合得很好. 中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室上海 200083 1. 中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室上海 200083 摘要: 利用反应离子束刻蚀设备制备了硅基的两维空气柱光子晶体，并用红外显微镜测试了样品的 反射谱. 理论上用时域有限差分(FDTD)方法计算了样品的光子带隙，从测试结果看光子带隙 和理论计算的光子带隙符合得很好.
可适配于RLS系列射频电源使用，广泛应用于等离子刻蚀、镀膜、等离子清洗、等离子去胶等工艺。单独使用时，可与其他厂家射频电源配套使用。 RHH系列射频电源依靠成熟的射频发生技术为基础，为客户提供更大的功率、精度更高、响应快速的射频电源
随着高分子材料制备技术的不断发展，其应用范围也越来越广，但由于高分子材料表面的惰性往往限制了它们的应用。低温等离子体技术的快速发展和其优异性引起了人们的广泛兴趣。低温等离子体能够有效的改善高分子材料的表面性能，包括润湿性、粘合性、染色性、印刷性、防静电性、拒水性和拒油性及其他性能等等
“2019集成电路产业链协同创新发展交流会暨集成电路产业技术创新联盟大会”于2月23日召开。会上，集成电路产业技术创新联盟组织颁发了第二届集成电路产业技术创新奖，对在产业技术创新、成果产业化推进、产业链合作等方面取得突出成绩的团队和 个人进行了表彰。 北方华创荣获三项奖励：公司副董事长耿锦启荣获“产业创新突出贡献奖”；12英寸双脉冲刻蚀机NMC612D开发团队被授予“技术创新奖”；创硅外延CVD设备研发团队被授予“成 果产业化奖”
等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下（如射频、微波等）形成等离子体，干法刻蚀技术由于具有良好的各向异性和工艺可控性已被广泛应用于微电子产品制造领域，凭借在等离子体控制、反应腔室设计、刻蚀工艺技术、软件技术的积累与创新，北方华创微电子在集成电路、半导体照明、微机电系统、先进封装、功率半导体等领域可提供高端装备及工艺解决方案。形成了对硅、介质、化合物半导体、金属等多种材料的刻蚀能力，刻蚀设备已进入主流芯片代工厂，其余各类产品也凭借其优异的工艺性能成为了客户的优选
