光刻胶

简 历： 曾毅，研究员，2004年毕业于中国科学技术大学高分子系，获理学学士学位；2009年毕业于中国科学院理化技术研究所，获理学博士学位。2009年？2011年在中国科学院理化技术研究所任助理研究员，2012年至今任副研究员。2009年获中国科学院宝洁奖学金，2012年获“香江学者计划”资助

您好欢迎来到重庆沃肯新材料科技股份有限公司官网! 重庆沃肯新材料科技股份有限公司提供CDMO和CMO服务，主要为电子显示及半导体企业、日用美妆企业、医药企业提供定制研发生产服务。 公司参考ISO管理标准以及相关法律法规的标准要求，建立了EHS管理体系和质量管理体系。高层领导给与强有力的支持确保各体系在组织内有效运行

3月16日，在日韩首脑会面之后，日本宣布取消对韩国的半导体技术出口限制，双方四年前引发的争议就此平息，韩国半导体被关键材料卡脖子的难题解除。 2019年7月份，由于两国在历史问题上的争议，日本宣布限制对韩国出口三种关键的半导体材料，分别是光刻胶、氟化聚酰亚胺和氟化氢，他们是半导体及面板生产中的重要材料之一，也是韩国三星、SK海力士等芯片巨头进口的主要来源。 在半导体材料领域，日本是全球最大的半导体材料生产国，日本在半导体材料里长期保持绝对优势，生产半导体芯片需要19种左右的必须的材料，日本企业在硅晶圆、合成半导体晶圆、光罩、光刻胶、靶材料等14种重要材料方面均占有50%以上的份额

主讲简介：大连理工大学教授、中国科学院院士。精细化工国家重点实验室主任、中国石油与化工联合会高端化学品专业委员会主任、中国化工学会日用化学委员会主任。主要从事智能分子工程，包括功能染料、荧光探针、光敏剂、光刻胶等研究，在数码彩色打印、血液细胞荧光分析系统等领域获得产业化应用，分别获得国家技术发明二等奖和国家自然科学二等奖

在集成电路制造领域，光刻技术被用来将图案从包含电路设计信息的光刻掩膜板上转移到晶圆上，其中的光刻掩膜板，也称为光刻版、掩膜板或者光罩，是一种对于曝光光线具有透光性的平板，其上具有对于曝光光线具有遮光性的至少一个几何图形，所述几何图形为设计图形，可实现有选择的遮挡照射到芯片表面光刻胶上的光，并最终在晶圆表面的光刻胶上形成相应的图案。 随着器件朝向小型化微型化趋势发展，为了增加光刻掩膜板上的设计图形的工艺窗口，增加对焦深度，通常光刻掩膜板上除具有定义设计图形的主图形外，还在主图形的一侧或两侧设计光学辅助线条，所述光学辅助线条为条状图形，并且，所述光学辅助线条不能在晶圆上成像。 然而，现有技术制造的光刻胶掩膜板的产品良率较低，光刻掩膜板重出的损耗较大

在这里看看最近都发生了什么新鲜事吧。 展会预告|特思迪与您相约第十二届CHInano纳博会！ 2021年是“十四五”规划纲要实施的开元之年，碳纤维、无机非金属、高性能复合材料等高端新材料；宽禁带半导体、光刻胶等电子高纯材料；微机电系统（MEMS）特色工艺作为规划纲要重点前沿科技发展方向，已逐渐成为各地争相发展新标地。全球蔓延的新型冠状病毒致使国际产业环境加速变动，对全球科技供应链产生广泛影响，中国作为世界唯一拥有全部工业门类的国家，肩负着科技发展的时代责任

光刻机和蚀刻机一直都是当前最热的话题，可以说光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，要想制造高端的芯片，这两个东西都必须顶尖。那它们俩有什么区别呢？最简单的解释就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面，刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉，这样看起来似乎没什么难的，但是有一个形象的比喻，每一块芯片上面的电路结构放大无数倍来看比整个北京都复杂，这就是这光刻和蚀刻的难度。 光刻的过程就是先在制作好的硅圆表面涂上一层光刻胶（一种可以被光腐蚀的胶状物质），接下来通过光线（工艺难度紫外光＜深紫外光＜极紫外光）透过掩膜照射到硅圆表面（类似投影），因为光刻胶的覆盖，照射到的部分被腐蚀掉，没有光照的部分被留下来，这部分便是需要的电路结构

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亦盛科技成立于2008年，公司专注于3C电子新材料领域，是一家集研发、生产、销售、服务于一体的国家级高新技术企业。 公司总部位于广州科学城科技企业加速器，现有员工100余人，公司拥有先进的生产设备及分析检测仪器，目前建有两个花园式生产基地、总占地面积12000平米，年产能最高可达20000吨。 公司研发实力雄厚，设有四个研发实验室， 拥有一批以博士、硕士、高级工程师为主的研发团队，现有研发人员20余人

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