光刻胶
沛沅等离子体清洗机的清洗原理是在真空腔体里,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,以达到清洗目的。 在这种情况下,等离子体清洗机可以产生以下效果: 污染物在真空和瞬时高温下的部分蒸发,污染物被高能离子粉碎并被真空带走。 紫外辐射破坏污染物,由于等离子体处理每秒钟只能穿透几纳米,所以污染层不应该太厚
近年来,跟着科学研究的不断深入,主要用来检测资料外表微米和纳米力学性质的纳米硬度技术迅速发展,纳米压痕仪的使用也变得越来越广泛。 纳米压痕法是一种快速取得资料纳米硬度和模量值的办法,同时,能够对资料的刚度及断裂韧性等进行表征。纳米压痕在摩檫学上的使用主要是丈量纳米级摩擦磨损功能和外表粘附力,从而为微机电中开发新的涂层、光滑资料和外表处理服务
氮气等离子清洗机的应用领域有哪些? 广东金铂利莱专业生产等离子清洗机实力厂家,氮气等离子清洗机采用气体作为清洗介质,能高效清洗活化产品表面,对材料表面进行清洁、活化、激活和提高表面附着力。金铂利莱,源头工厂,设备处理能效稳定可靠,品质高*,免费送货上门安装培训。 简述什么是等离子体? 气态与非气态等离子体,气态等离子体按其产生时所用气体的化学性质不同可分为不活泼气体和活泼气体两大类
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NPC-3500(M)等离子刻蚀机:NANO-MASTER 等离子刻蚀和等离子灰化机是专门设计用来满足晶圆批处理或单芯片处理,具有广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制,可以配套不同的等离子源,加热或不加热基片夹具具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。 NPC-3500(M)等离子刻蚀机概述:NANO-MASTER 等离子灰化和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单芯片处理的广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到
中科联化有限公司,简称“中科联化”英文名称“CASUC™”,是由中国科学院与都佰城集团2017年合资成立的高端化学品及原材料工业投资和应用研究的科技企业。企业主营;高端化学品及原材料工业的投资和贸易,先进材料研发与制造;动力电池材料、锂离子电池材料、正负极水性粘结剂、电池隔膜、电池电解液、有机纳米材料、芯片电子专用材料、光刻胶、聚氨酯材料以及特种胶黏剂和功能性涂层产品的生产销售及代理经销。 联合创新、化石成金,是中科联化与合作伙伴共赢的发展理念,汇聚全球高端创新人才,驱动科技进步,打造先进材料中国品牌
全球光刻胶研制专利共5483件,其中光刻胶用树脂专利为3726件,这些树脂专利的具体分类及各类专利所占比例见上图。目前光刻胶用树脂专利中G、I线,248nm,193nm,DUV,浸没式193nm光刻胶占树脂专利的88%,其中DUV是指既可用于248nm光刻胶也可用于193nm光刻胶的树脂专利,浸没式193nm是指专门用于浸没式193nm光刻胶的树脂专利。目前产业界中产值最大的光刻胶也主要是G、I线光刻胶,248nm光刻胶,193nm光刻胶
3月30日,沪深两市弱势调整。截至收盘,上证指数下跌0.90%,报2747.21点;深证成指下跌2.03%,报9904.95点;创业板指下跌2.28%,报1860.48点。沪市成交额为2506.87亿元,深市成交额为3824.41亿元
集团旗下上海集成电路研发中心有限公司(ICRD)成立于2002年,是国家支持组建、产学研合作的国家级集成电路研发中心。 上海集成电路研发中心聚焦集成电路主流技术路线,致力于解决重大共性技术的研发及服务支撑问题,并为自主可控产业链建设提供公共的装备和材料验证平台。ICRD掌握了多个技术代的工艺技术和知识产权,为中国集成电路生产线的建设提供了多套技术转移和服务;通过设立产业界共性技术研发项目,进行FinFET器件及工艺、FDSOI关键工艺、5nm以下纳米线晶体管等新器件和工艺技术的联合研发;开展产学研合作,研发STT-MRAM、晶体管级3D堆叠、量子点传感器、类神经元晶体管等前沿技术和产品;通过以先进工艺带动装备和材料研发评价的方式,为国产光刻机、刻蚀机、铜互连、光刻胶、大硅片等装备和材料提供全方位验证和工艺配套,推动供应链的国产化
日前,由权威协会中国光学光电子行业协会液晶分会(CODA)主办,中国电子商会、中国电子材料行业协会、韩国显示产业协会KDIA和日经BP联合主办,励程展览独家承办的2020中国(上海)国际显示技术及应用创新展(简称DIC EXPO显示展)于上海国家会展中心圆满落幕,DIC EXPO显示展为目前国内乃至世界领先的显示、触控技术及创新应用专业盛会。现场汇聚行业龙头显示面板/材料/终端应用等企业,引领显示行业迈进新时代。 以“时光之旅–跨越时空推动显示科技进化”为主题,默克展台凭借数字化平台,向现场观众展示了能卓越改善显示器性能和工艺的高科技材料及解决方案,包括时下备受追捧的能实现超薄、柔性和灵活形态显示的有机发光二极管(OLED)技术,助力新一代显示的液晶材料最新发展成果,在高分辨率显示器上具有出色表现的光刻胶材料,以及智能液晶窗、液晶天线等超越显示以外的应用