轰击
利用在电场作用下高速运动的电子轰击物体表面，使之被加热。进行电子束加热的主要部件是电子束发生器，又称电子枪。电子枪主要由阴极、聚束极、阳极、电磁透镜和偏转线圈等部分组成
35#无缝钢管表面改性技术能使材料表面的耐磨性、耐腐蚀性、弯曲疲劳强度、表面精度、防水性以及粗糙度有很大的提高，所以各工业发达国家都深入地开展了这方面的研究。 目前，对材料表面抛光主要方法有以下几种：表面淬火、化学表面改性、激光表面改性、热喷涂和电子束加工技术等。 表面淬火是指利用快速加热使钢在短时间内达到淬火温度，不等热量传至工件中心即迅速冷却，仅使表层得到马氏体从而起到强化表面的作用
X光管实际上就是一只在高压下工作的真空二极管，它有两个电极：一个是用于发射电子的灯丝，作为阴极，另一个是用于接受电子轰击的靶材，作为阳极，它们被密封在高真空的玻璃或陶瓷外壳内。按照产生电子的方式，X光管可分为充气管和真空管两类，根据密封材质不同，可分为玻璃管、陶瓷管和金属陶瓷管；根据用途不同，可分为医疗X射线管和工业X射线管；根据密封方式不同，可分为开放式X光管即在使用过程中需要不断抽真空，密封式X光管即生产X射线管时抽真空到一定程度后立即密封，使用过程中无需要再次抽真空。 X光管提供电部分至少包含有一个使灯丝加热的低压电源和一个给两极施加高电压的高压发生器
本人一直从事植物发育生物学研究，早期探讨过植物激素对烟草叶形态的影响，后来在被子植物花形态多样性方面研究了金粟兰的MADS-box基因和水稻的APETALA2基因，近来正在以蕨类植物的准模式物种水蕨为材料研究叶发育相关基因的功能。另外，处于进化发育生物学（evo-devo）这个结合点，本人也运用分子进化分析研究过鲸鱼和蝙蝠的回声定位的平行/趋同进化机制。目前，本人已对水蕨进行了较为深入的了解：通过转录组测序获得了较为完全的叶发育相关基因，通过原位杂交获得了一些基因的表达模式，通过基因枪轰击愈伤组织建立了遗传转化体系，本人期望揭示叶发育过程中的一些分子机制以及进一步阐明陆地植物叶多次起源的假说
等离子体系统出现问题怎么解决？ 现在随着时代的进步，等离子清洗机出现在我们的生活中，这是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到我们普通清洗方法无法达到的效果，有应用也就会有问题出现，那等离子清洗机出现问题怎么解决呢？下面告诉大家处理的方法。 在真空等离子腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，以达到清洗目的。 经过等离子表面处理机过后的物体，增强了表面能，亲水性，提高粘合度，附着力
近年来，随着新材料的发展，薄膜材料的开发和应用，溅射沉积技术的发展在科学研究和工业生产中发挥了重要的作用。在溅射过程中，靶材料由待沉积材料制成，固定在溅射系统的阴极上，待沉积薄膜的衬底放置在面向靶表面的阳极上。当溅射系统被抽运到高真空并充入氩气时，阴极和阳极之间施加高压，阴极和阳极之间产生低压辉光放电
等离子清洗机所需用的等离子体主要是利用特有的气体分子在真空泵、自放电等特有公共场合下形成，像低压气体辉光等离子体。其程包含：将要清洗的样品放进真空腔内， 运行真空泵等设备进行抽空排气到20Pa左右的真空度；然后向真空室通入等离子清洗用的工艺气体(依据等离子处理的样品材质的差异及处理目的的不同，选用的工艺气体 也不同，通常有氧气、氢气、氩气、氮气等)；在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面以达 到清洗目的；清洗过程会持续几十秒到几分钟，具体时间根据处理要求而定。 1、要定时做维护保养和维修保养
干 蚀刻 采用的蚀刻剂是等离子体，其工作原理是利用等离子体和表面薄膜反应，形成挥发性物质，或者直接轰击薄膜表面使之腐蚀的工艺，它的特点是，可以实现各项异性刻蚀，从而保证细心图形转移后的保真性，干蚀刻的设备造价比较高，应用的领域主要以半导体为主。 干蚀刻采用的蚀刻剂是等离子体，其工作原理是利用等离子体和表面薄膜反应，形成挥发性物质，或者直接轰击薄膜表面使之腐蚀的工艺，它的特点是，可以实现各项异性刻蚀，从而保证细心图形转移后的保真性，干蚀刻的设备造价比较高，应用的领域主要以半导体为主。 （湿蚀刻采用的蚀刻液) 湿蚀刻采用的是酸碱性的腐蚀液为蚀刻剂，通过抗腐蚀层保护不去除的部分
减反膜小课堂讲解：磁控溅射的溅射镀膜相关知识？ 磁控溅射的溅射镀膜你知道是什么吗？下面就跟着减反膜小编一起来简单的了解看看吧！ 溅射镀膜是一种利用高能粒子在真空中轰击靶材表面的技术，使被轰击的粒子沉积在基材上。 通常，低压惰性气体辉光放电用于产生入射离子。 阴极靶由涂层材料制成，衬底用作阳极，并将0.1-10Pa的氩气或其他惰性气体引入真空室，阴极（靶）1-3KV直流负高压或13.56 MHz射频电压产生明亮的光放电
1.样品尺寸要求：样品尺寸最小需大于1*1cm仪器可镀的最大尺寸为6英寸； 2.样品非粉末，不掉粉，不掉渣，高温镀膜的样品需要耐高温。 真空蒸镀：真空蒸镀中的金属镀层通常为铝膜，但其它金属也可通过蒸发沉积。 优点是：技术层涂布均匀，细密