轰击

工业废气处理设备的种类有很多，每种设备都有他的工作原理，今天大家就来先容一下低温等离子工业废气处理设备的操作流程以及需要注意的事项。 低温等离子废气处理净化设备的自动检测系统可以在开机和灭菌过程中自动进行系统的运行参数检测，如果在运行过程中等离子清洗机出现了异常，设备就会自动终止运行，并报警指示故障的情况，大大提 高了等离子清洗机设备的运行安全性。 低温等离子设备除臭 去除污染物的基本过程: 过程一：高能电子的直接轰击； 过程二：O原子或臭氧的氧化:O2+e→2O-； 过程三：OH自由基的氧化: H2O+e→OH+H H2O+O→2OH H+O2→OH+O； 过程四：分子碎片+氧气的反应

电学样品台可用于材料表面形貌分析，微区形貌观察，各种材料形状、大小、表面、断面、粒径分布分析，以及各种薄膜样品表面形貌观察、薄膜粗糙度及膜厚分析。 离子溅射镀膜是电学样品台常用的一个方法，在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极（靶）和阳极（试样）间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。对于任何待镀材料，只要能做成靶材，就可实现溅射，溅射方法有四种：直流溅射、射频溅射、磁控溅射、反应溅射

真空泵机组高频放电就是当两个电极间有高频交变电场存在时所引起的放电形式。当放电管两端加上交变电压时，真空泵机组气体中的电子和正离子便在交变电场作用下产生附加的谐振动。因正离子质量比电子大得多，谐振动振幅很小

特种光量子通过特制的激发光源产生不同能量的光量子，利用恶臭物质对该光量子的强烈吸收，在大量携能光量子的轰击下使恶臭物质分子解离和激发。再利用光量子分解空气中的氧分子产生游离氧，即活 性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。臭氧在该光量子的作用下可 产生大量的新生态氢、活性氧和羟基氧等活性基团，一部分恶臭物质也能与活性基团反应，最终转化为 CO2和H2O等无害物质，从而达到彻底去除恶臭气体的目的

真空镀膜机主要是指需要在高真空下进行的镀膜，包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机、分子束外延镀膜机和PLD激光溅射镀膜机。主要分为蒸发和溅射。 在真空镀膜设备中，需要镀膜的材料成为基体，被镀膜的材料成为靶材

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真空环境中进行加热的设备。在金属罩壳或石英玻璃罩密封的炉膛中用管道与高真空泵系统联接。炉膛真空度可达133×(10-2～10-4)h

等离子清洗可以通过离子轰击使基板和芯片表面的污染物杂质解吸附并去除杂质，使得引线键合拉力值提高，可靠性提高。 先采用氩离子体轰击再进行氧离子轰击后，基板表面键合效果差，拉力测试基本不留焊点，工艺气体为氩气的实验结果见表 1，工艺气体为氧气和氩气的实验结果见表 2。 表 1 对以上实验进行二次验证，实验结果重复性较好，实验得出以下结论： （1）氩气等离子清洗后，基板容易键合，进行破坏性拉力测试后金丝从根部拉断，键合力有明显提高； （2）先氧离子后氩离子清洗后，基板不易键合，破坏性拉力测试后键合区没有键残留痕迹，键合力没有明显提高

等离子清洗机利用等离子体中高能粒子和活性粒子，通过轰击或活化反应作用达到将金属表面污物去除的目的。等离子体清洗的过程中不使用化学试剂，所以不会造成二次污染，清洗设备可重复性强，所以设备的运行成本比较低，而且操作灵活简单，可以实现对金属表面的整体或某些局部及复杂结构的清洗；有些经过等离子体清洗后的表面性能还可以得到改善，有助于金属的后续加工应用。 等离子体中处理存在着大量的气体分子、电子和离子外，还存在大量受激发的中性原子、原子团自由基及等离子体射出的光线

到东北雪乡看雪相机会“**”？炎炎夏日手机暴晒会“中暑”，频繁死机、速度变慢，甚至发生自燃或爆炸？这些都是锂离子电池在低温、高温下欠佳的表现。 近日，WILEY数据库制作了一部视频短片，用以介绍解决上述问题的答案——将三维石墨烯作为正极、铝片作为负极的铝离子电池，其表现出高容量和长循环寿命等优异特性。而这一“答题”者，正是我校化学化工学院于馨智博士、物理与微电子科学学院王斌博士后