沉积
洞穴次生化学沉积，这名字是不是令人费解？那么说钟乳石、石笋、石花，是不是就恍然大悟了？在石灰岩溶洞中，这些由碳酸盐、硫酸盐、磷酸盐等为主要成分，经过漫长年代形成的沉积，造就了洞穴中令人目不暇接的美丽。碳酸盐所形成的那些美丽形态，是其中最具代表性、最多姿多彩的一种次生化学沉积，堪称洞穴中的精灵。 同一处滴水，在洞顶生成石钟乳，在洞底沉积成石笋，石钟乳与石笋相对生长，连接在一起便形成石柱
【产品名称】1200℃-PECVD管式炉系统【炉管尺寸】φ40--φ100mm【加热区】300mm/440mm 【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】PECVD系统（等离子增强化学气相沉积系统）由管式炉、真空获得、流量控制和射频电源四大模块组成， 本设备借助13.56Mhz的射频输出使含有薄膜组成原子的气体电离，在真空腔体内形成等离子体，利用等离子的强化学活性，改善反应条件，使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术，最终得到基片上沉积出所期望的薄膜。【产品名称】1700℃-CVD管式炉【炉管尺寸】φ25--φ120mm【加热区】300mm 【额定温度】1700℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。1200℃-CVD梯度管式炉 【产品名称】1200℃-CVD梯度管式炉【炉管尺寸】φ25--φ120mm【加热区】300mm+300mm 【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料
CVD: 化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition)，用含有目标元素的气体，接收能量后通过化学反应，制备固体薄膜。CVD(化学气相沉积)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说，它是很简单的:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到芯片表面上
今天，我们为大家呈现的是重现化学系列之《电沉积》，重新定义你对金属的印象，且看它如何恣意生长、优雅绽放。 电化学是化学中的一类重要分支，是研究电子导体（金属或半导体等）和离子导体（电解质溶液等）形成的界面上所发生的带电及电子转移变化的科学[1]。 电化学主要研究电能和化学能之间的转换，这与我们的日常生活息息相关
学历：博士研究生毕业 在职信息：在职 所在单位：地球科学学院 曾获荣誉： 办公地点：长春市建设街2199号地球科学学院309 程日辉，1986年本科生毕业于中国地质大学（武汉），1997年博士生毕业于长春科技大学。现任吉林大学地球科学学院教授，中国矿物岩石地球化学学会会员，自然资源部全国油气督查员。主要从事沉积学、海洋地质和油气地质等方面的研究和教学工作
原子层沉积前驱体往往都是金属有机化合物，合适的前驱体种类较少而且价格昂贵；传统热原子层沉积技术因需要长时间的惰气吹扫以保证随后的表面自限制薄膜生长，沉积速率较慢，不适合大规模工业生产； 随着原子层沉积技术与其他先进技术不断融合以及人们对原子层沉积设备的不断改进，诸如“等离子体增强原子层沉积技术”、“空间式原子层沉积技术”、“流化床原子层沉积技术”等新型原子层沉积技术逐渐出现并在一定程度上有效解决了传统热原子层沉积技术所面临的诸多难题。 一套成熟的空间式原子层沉积设备需保证每小时超过3000片156×156mm2规格Si片的生产能力。由于空间式原子层沉积设备中沉积速率不再受限于单个循环步骤的累计时间，仅取决于衬底或前驱体喷嘴在两个半反应区间移动所需的时间，而薄膜厚度也仅取决于喷头上所集成的沉积单元数量
Other Abstract 南海北部神狐海域是我国首次获取海洋天然气水合物实物样品的海域.然而陆坡区深水水道和海底峡谷的侵蚀以及频发的沉积物失稳将会加剧地层对比和沉积相识别的难度导致目前该区域典型地震相-沉积相特征、沉积体类型、成因机制和空间匹配关系等方面还缺少精细的研究特别是第四纪以来的沉积演化涉及较少区域内水合物形成和分布的沉积地质条件尚不清晰.基于海底地形特征的描述、层序地层格架的对比和地震资料的综合解释本次研究在第四纪以来的沉积充填序列中识别出5种典型的地震相类型并分析了对应的沉积体类型：进积型的陆坡、第四纪早 Affiliation 1.中国科学院天然气水合物重点实验室广州510640 2.中国科学院广州天然气水合物研究中心广州510640
光化学气相沉积是采用高能光子有选择性地激发表 面吸附分子或气体分子，从而导致键断裂、产生自由化 学粒子形成膜或在相邻的基片上形成化合物时，产生光 化学沉积。这一过程强烈依赖于人射线的波长，光源可 以是激光或紫外灯，除了直接诱导光致分解过程外，也 可用隶敏化（mercury sensitized)，制得高质量薄膜。于光化学气相沉积中的分解和成核均由光子源控制，因此基片温度可以独立控制
ROTARIS是全自动、高精度、超高真空的溅射镀膜平台。可处理200mm～300mm尺寸的晶圆。它的主沉积腔RSM(Rotating-Substrate-Module)最多可配有12个直径为100mm
Title: 二氧化碳激光辅助电浆激发式化学气相沉积非晶形二氧化硅薄膜 none Abstract: 本实验是以二氧化碳激光辅助电浆激发式化学气相沉积二氧化硅。以输出不同波长及不同功率的二氧化碳激光斜向照射在硅基板上，利用电浆激发式化学气相沉积非晶形二氧化硅薄膜。比较以同波长不同功率与同功率不同波长的二氧化碳激光辅助电浆激发式化学气相沉积及以电浆激发式化学气相沉积所沉积出薄膜的特性
在晶圆表面创建和精确沉积材料层方面，应用材料公司拥有业界最广泛的成套技术。可精确控制薄膜，有些薄到甚至只有一个原子厚度。在半导体制造中，需要沉积的材料包括绝缘体（例如氮化硅）、导体（例如铜和钨）以及化合物（例如铁磁材料）
NCD给韩国客户提供了应用于半导体领域设备中使用的配件保护涂层的原子层沉积设备，此设备可以给常保养配件做防腐蚀及防等离子电弧作用的涂层。 客户使用此设备，可提高工艺的安全性和减少部分损伤，提高配件的使用寿命，减少维护周期从而降低运营费用。 在半导体产业中，生产率及成本竞争力越来越重要
德国新格拉斯科技集团20年来为半导体、太阳能和汽车行业生产设备，满足了这些领域的高质量要求。2017年集团 为医学技术提供湿法化学和真空沉积设备。集团开发的新工艺设备MEDLINE Clean可以清除隐形眼镜上的残余物 质，并在镜片上加一道涂层工序