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光化学气相沉积是采用高能光子有选择性地激发表 面吸附分子或气体分子，从而导致键断裂、产生自由化 学粒子形成膜或在相邻的基片上形成化合物时，产生光 化学沉积。这一过程强烈依赖于人射线的波长，光源可 以是激光或紫外灯，除了直接诱导光致分解过程外，也 可用隶敏化（mercury sensitized)，制得高质量薄膜。于光化学气相沉积中的分解和成核均由光子源控制，因此基片温度可以独立控制