deposition
所有TEC Glass产品是使用化学气相沉积方式PCVD(patented chemical vapor deposition)的专利所生产出耐用、色彩自然的热解膜,此程式提供一高度的弹性,因此,不论这技术是否是在DSSC(Dye-sensitized solar cell),非晶硅(a-Si)、混合非晶硅/微晶硅(a-Si/microcrystalline Si)或镉碲化物(cadmium telluride)薄膜,其电阻值、薄雾值和透光率等特性,都能够最有效符合个别客户的需求。 综合性能常用直属FTC来评价:FTC=T10/RS。 本公司提供下列规格产品,亦可客制化裁切
1. 综述当前石墨烯产业化制备技术。 2. 总结石墨烯产业化制备过程中存在的问题。 3. 提出“标号”石墨烯的概念和石墨烯“杀手锏”级别应用
2019年10月26日 by materialsviewschina 作为21世纪的明星材料,石墨烯具有独特的原子结构和优异的物理化学性质,在电子器件、透明导电薄膜、太阳能电池、分离膜和透射电镜成像等领域表现出巨大的应用前景,受到了人们的广泛关注。化学气相沉积法(Chemical vapor deposition,CVD)因具备生长的石墨烯薄膜质量高,可控性好和可放量等优点,逐渐成为制备高质量石墨烯薄膜的首选。目前,CVD石墨烯的质量与理论值相比仍有不足
1. 综述当前石墨烯产业化制备技术。 2. 总结石墨烯产业化制备过程中存在的问题。 3. 提出“标号”石墨烯的概念和石墨烯“杀手锏”级别应用
所有TEC Glass产品是使用化学气相沉积方式PCVD(patented chemical vapor deposition)的专利所生产出耐用、色彩自然的热解膜,此程式提供一高度的弹性,因此,不论这技术是否是在DSSC(Dye-sensitized solar cell),非晶硅(a-Si)、混合非晶硅/微晶硅(a-Si/microcrystalline Si)或镉碲化物(cadmium telluride)薄膜,其电阻值、薄雾值和透光率等特性,都能够最有效符合个别客户的需求。 综合性能常用直属FTC来评价:FTC=T10/RS。 本公司提供下列规格产品,亦可客制化裁切
1. 综述当前石墨烯产业化制备技术。 2. 总结石墨烯产业化制备过程中存在的问题。 3. 提出“标号”石墨烯的概念和石墨烯“杀手锏”级别应用
CVD: 化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition),用含有目标元素的气体,接收能量后通过化学反应,制备固体薄膜。CVD(化学气相沉积)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说,它是很简单的:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,然后他们相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,沉积到芯片表面上
1. 综述当前石墨烯产业化制备技术。 2. 总结石墨烯产业化制备过程中存在的问题。 3. 提出“标号”石墨烯的概念和石墨烯“杀手锏”级别应用
打印机通过读取文件中的横截面信息,用液体状、粉状或片状的材料将这些截面逐层地打印出来,再将各层截面以各种方式粘合起来从而制造出一个实体。这种技术的特点在于其几乎可以造出任何形状的物品。 有些技术可以同时使用多种材料进行打印