deposition
所有TEC Glass产品是使用化学气相沉积方式PCVD(patented chemical vapor deposition)的专利所生产出耐用、色彩自然的热解膜,此程式提供一高度的弹性,因此,不论这技术是否是在DSSC(Dye-sensitized solar cell),非晶硅(a-Si)、混合非晶硅/微晶硅(a-Si/microcrystalline Si)或镉碲化物(cadmium telluride)薄膜,其电阻值、薄雾值和透光率等特性,都能够最有效符合个别客户的需求。 综合性能常用直属FTC来评价:FTC=T10/RS。 本公司提供下列规格产品,亦可客制化裁切
PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。 2.成都PVD涂层技术都有那些分类? PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。 3: PVD涂层的具体原理是什么? 物理气相沉积是一种物理气相反应生长法,沉积过程是在真空或低气气体放电条件下,涂层物质源是固态物质,经过“蒸发或溅射”后,在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层
熔融沉积成型(英:Fused deposition modeling FDM),是一种将各种热熔性的丝状材料(蜡、ABS和尼龙等)加热熔化成形的方法,是3D打印技术的一种。 光固化3D打印 (简称SLA),采用光聚合法通过光照射让小分子连结 形成聚合物。 选择性激光烧结(SLS)是一种加法制造(AM)技术,它使用激光作为功率和热源来烧结粉末材料(通常是尼龙或聚酰胺),将激光自动对准由3D模型定义的空间点,将材料结合在一起以创建固体结构,主要用于快速原型设计和零部件的小批量生产
FDM(Fused Deposition Modeling)中文全称为熔融沉积成型,是目前应用最为广泛的3D打印技术,该技术是美国Stratasys公司于上世纪八十年代末发明。1992年该公司推出世界上一款基于FDM技术的3D打印机,标志着FDM技术步入商用阶段。2009年FDM关键技术到期,各种基于FDM技术的3D打印公司开始大量出现,行业迎来快速发展期
PVD(Physical Vapor Deposition)应用于薄膜制程是近来促进3C产业进步的关键性技术之一,随着未来电子资讯产品发展尺寸微小化、功能无限化、新材料的多样化,PVD的应用领域也随之更加广泛。 鑫昌光电(以下简称为TCMC),设立于2012年2月。母公司为台湾鑫科材料科技股份有限公司,鑫科承袭中钢集团在材料冶金的专业,再加上十多年来的光 电薄膜耕耘,累积了厚实的能力与经验,着眼于中国光电产业迅速扩增及内外销市场高度成长,故中钢在集团资源分布及全球布局的考量下,由台湾鑫科材料 100%持股的鑫昌光电,期待能在中国产业链中做出Z大的贡献
表面处理是通过物理或化学手段,将另一种金属附着在工件表面上,或者只是改变工件材料表面物理性质或化学性质,以满足对工件不同的使用目的。 PVD:即物理气相沉积(Physical Vapor Deposition)向真空装置中通入氩气等惰性气体,在辉光放电和等离子体放电的作用下使镀料温度上升,蒸发出气相镀料,此金属蒸气被辉光放电的阴极加速,并以很高的能量轰击产品表面,从而形成覆盖层的一种镀覆方法。 PVD镀膜的种类:其种类有TiN、TiCN、CrN、DLC、多层镀钛等,在模具行业使用最多的是钛镀膜
所有TEC Glass产品是使用化学气相沉积方式PCVD(patented chemical vapor deposition)的专利所生产出耐用、色彩自然的热解膜,此程式提供一高度的弹性,因此,不论这技术是否是在DSSC(Dye-sensitized solar cell),非晶硅(a-Si)、混合非晶硅/微晶硅(a-Si/microcrystalline Si)或镉碲化物(cadmium telluride)薄膜,其电阻值、薄雾值和透光率等特性,都能够最有效符合个别客户的需求。 综合性能常用直属FTC来评价:FTC=T10/RS。 本公司提供下列规格产品,亦可客制化裁切