掩膜

绍兴中芯集成电路制造股份有限公司成立于2018年03月09日，位于浙江省绍兴市越城区皋埠街道临江路518号，公司原名为中芯集成电路制造（绍兴）有限公司，于2021年6月30日更名为绍兴中芯集成电路制造股份有限公司，企业类型为股份有限公司（外商投资，未上市），法定代表人：赵奇，注册资本伍拾亿柒仟陆佰万元，统一社会信用代码：91330600MA2BDY6H13，经营范围：半导体（硅及各类化合物半导体）集成电路芯片制造、针测及测试、测试封装；先进晶圆级封装；电子元器件及光学元器件研发及制造；光刻掩膜版制造；模具制造与加工；与集成电路、电子/光学元器件有关的开发、设计服务；销售自产产品，并提供相关技术咨询和技术服务；从事货物及技术的进出口业务；自由设备、房屋租赁。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）。 参与评价工作的注册安全工程师 石有才 鲍雷法 朱晓丽 李敏 参与评价工作的技术专家 / 现场开展安全评价工作人员 石有才 现场开展安全评价工作时间 2022.10.8

我中心青年教师亓东锋作为课题负责人承担国家重点研发计划课题“超快激光无掩膜高通量微纳制造机理与技术”，该课题隶属于2022年度国家重点研发计划项目《柔性光电器件的激光光场调控微纳制造》。该项目由北京工业大学牵头，联合山东理工大学、北京理工大学、吉林大学、清华大学及中科院宁波材料所等6家单位共同承担，共4个课题，山东理工大学作为课题二的独立承担单位，主要负责超快激光无掩膜高通量微纳制造机理与技术等领域的研究工作。 该项目面向柔性光电器件关键功能结构激光制造的重大科学问题和共性技术问题，在跨尺度光场调控理论及方法、超快激光无掩膜高通量微纳制造机理与技术、量子光学成像器件色心激光精细制造及柔性光电器件复合功能结构飞秒激光制造等方面开展系统深入研究

在半导体制造中，光刻工艺是最重要的步骤之一，光刻确定了半导体器件的关键尺寸。光刻工艺主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上，为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备，当掩膜板存在缺陷时，掩膜板的缺陷会在光刻工艺中转移到硅片上，最终可转化为对半导体器件的电特性产生影响，所以掩膜板的质量需要严格的控制。 在现有技术中，在掩膜板上制备出图形后，需要将掩膜板放到紫外光下用紫外光照射，从而使掩膜板固化

掩膜曝光光刻机Mask Aligner 简要描述：MYCRO*荷兰光刻机（掩膜曝光光刻机Mask Aligner ），是的光刻系统，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。 一、掩膜曝光光刻机Mask Aligner产品简介： 光刻机分为半自动和全自动两大系列。MPEM系列是高精度的双向掩模对准器，在芯片的顶侧和底侧包括对准光学系统，因此可以与顶侧对准对顶侧表面进行接触，软接触和接近图案化

在集成电路制造领域，光刻技术被用来将图案从包含电路设计信息的光刻掩膜板上转移到晶圆上，其中的光刻掩膜板，也称为光刻版、掩膜板或者光罩，是一种对于曝光光线具有透光性的平板，其上具有对于曝光光线具有遮光性的至少一个几何图形，所述几何图形为设计图形，可实现有选择的遮挡照射到芯片表面光刻胶上的光，并最终在晶圆表面的光刻胶上形成相应的图案。 随着器件朝向小型化微型化趋势发展，为了增加光刻掩膜板上的设计图形的工艺窗口，增加对焦深度，通常光刻掩膜板上除具有定义设计图形的主图形外，还在主图形的一侧或两侧设计光学辅助线条，所述光学辅助线条为条状图形，并且，所述光学辅助线条不能在晶圆上成像。 然而，现有技术制造的光刻胶掩膜板的产品良率较低，光刻掩膜板重出的损耗较大

光刻机和蚀刻机一直都是当前最热的话题，可以说光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，要想制造高端的芯片，这两个东西都必须顶尖。那它们俩有什么区别呢？最简单的解释就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面，刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉，这样看起来似乎没什么难的，但是有一个形象的比喻，每一块芯片上面的电路结构放大无数倍来看比整个北京都复杂，这就是这光刻和蚀刻的难度。 光刻的过程就是先在制作好的硅圆表面涂上一层光刻胶（一种可以被光腐蚀的胶状物质），接下来通过光线（工艺难度紫外光＜深紫外光＜极紫外光）透过掩膜照射到硅圆表面（类似投影），因为光刻胶的覆盖，照射到的部分被腐蚀掉，没有光照的部分被留下来，这部分便是需要的电路结构

光掩模包含集成电路图形。随着晶体管越来越小，光掩模也越来越复杂，以确保将图形精确转印到硅晶圆上。相应地，光掩模的制作过程日趋先进，即便光掩模存在细微的缺陷，也可能影响晶圆器件的性能

智通财经APP讯，中芯国际(00981)公告，截至2019年6月30日止6个月中期，收入14.6亿美元，同比下降15.2%，公司拥有人应占利润3081.1万美元，同比下降62%。 毛利率于截至2019年6月30日止6个月为18.7%，而截至2018年6月30日止6个月为25.4%。不含技术授权收入的确认，毛利率由截至2018年6月30日止6个月的17.8%增加至截至2019年6月30日止6个月的18.7%，主要原因为期内产品组合变动所致

欢迎浏览盈彩官网平台(中国)股份有限公司网站！我谨代表公司全体员工向新老朋友，致以亲切的问候！ 我国显示及半导体技术已经进入飞速发展的时代，但是其核心技术高精度、大尺寸光罩（掩膜版）一直牢牢掌握在西方人手中，深圳路维的创业者们克服了种种难以想象的困难，自行设计、自主研发在我国这一高技术领域取得了重大的突破，研制成功国内高精密度的大尺寸铬版光罩，为深圳的产业结构升级作出了突出的贡献。经过多年的不懈努力，我们的国内外市场不断扩大，经营业绩显著提高，团队素质不断提升。在此，我要衷心地感谢业界对我公司的信赖，感谢供应商、社会各界朋友和所有合作伙伴的密切配合，同时我也要感谢我的团队成员的付出与辛勤劳作

等离子清洗机，半导体/LED解决方案：不论在芯片源离子的注入，还是芯片的镀膜，低温等离子体表面处理设备所能达到的：在芯片表面去除氧化膜、有机物、去掩膜等超净化处理及表面活化提高芯片表面浸润性。等离子清洗机能提供表面清洗，活化，刻蚀，镀膜，线路板除胶，半导体封装，PVCD沉积等多种解决方案。 等离子清洗机Plasma Cleaner又被称为等离子蚀刻机、等离子去胶机、等离子活化机、Plasma清洗机、等离子表面处理机、等离子清洗系统等