aligner

简要描述：mask aligner半自动光刻机该公司是目前世界上早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。 光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等； MIDAS为全球*的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上较早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。 - 双CCD显微镜系统，最大放大1000倍，显示屏直接调节，比传统目镜对准更方便快捷，易于操作

掩膜曝光光刻机Mask Aligner 简要描述：MYCRO*荷兰光刻机（掩膜曝光光刻机Mask Aligner ），是的光刻系统，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。 一、掩膜曝光光刻机Mask Aligner产品简介： 光刻机分为半自动和全自动两大系列。MPEM系列是高精度的双向掩模对准器，在芯片的顶侧和底侧包括对准光学系统，因此可以与顶侧对准对顶侧表面进行接触，软接触和接近图案化