掩膜曝光光刻机mask aligner 简要描述：mycro

掩膜曝光光刻机Mask Aligner

简要描述：MYCRO*荷兰光刻机（掩膜曝光光刻机Mask Aligner ），是的光刻系统，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。

一、掩膜曝光光刻机Mask Aligner产品简介：

光刻机分为半自动和全自动两大系列。MPEM系列是高精度的双向掩模对准器，在芯片的顶侧和底侧包括对准光学系统，因此可以与顶侧对准对顶侧表面进行接触，软接触和接近图案化。芯片底面上的图形。掩模和晶圆的准确对准可能是通过高分辨率光学系统实现的，该光学系统的顶部和底部均安装了对称排列的10X物镜。由于可以调成对的物镜之间的间隔，所以不规则形成的芯片也可以自由地对准。