10nm

这意味着国内目前已经有两家EDA厂商，其EDA产品，支持到了3nm这种最先进的工艺，另外一家是华大九天。 事实上，从现在的情况来看，国产芯在EDA、设计、封测这三个环节均实现了3nm，达到了全球领先水平，现在只有制造卡在14nm了，而制造则主要卡在光刻机上。 先说EDA，前面已经提到过，华大九天、概伦电子的EDA产品，已经实现了3nm，不过这里大家要注意的是，并不是所有的流程环节均实现了3nm，只是部分产品达到了这个工艺

净水机可净化水质，利用自来水的压力带动水流，去除水中的沉淀物、细菌、铁锈、悬浮物等。过程中无废水、即饮、无储水箱，避免二次污染。快速连接一次性滤芯，维修方便

三星正式发布Exynos 9810处理器：多核性能提升40% IT之家1月4日消息 三星之前已经表示将会在CES 2018上展示Exynos 9810处理器，而现在三星在自家官网上透露了Exynos 9810处理器的性能。根据三星官网提供的消息，Exynos 9810处理器的单核性能将提升1倍，而多核性能提升40%。 三星今天发布了关于Exynos 9810处理器的新闻，除了表示将会在CES 2018上正式展出之外，三星还公布了9810处理器的部分细节，称这款处理器采用的是第三代定制CPU，同时采用第二代10nm工艺，四个自研大核心M3 CPU主频高达2.9GHz，四个Cortex-A55小核心主频为1.9GHz

穿透式电子显微镜使用钨丝来发射电子束(热游离)，当电子束穿透物体时，电子受到物体原子排列的影响而散射，最后投影在投影银幕上，我们可以由电子束在投影银幕上的二维投影图，反过来推算物体原子的三维结构与结晶情形。使用穿透式电子显微镜必须让电子束可以“穿透”试片，因此在观察之前必须先将试片加工研磨成小于200nm(纳米)的厚度才行，如何将试片研磨到这么薄又不破坏物体原有的结构是非常困难的事，将电子束在投影银幕上的二维投影图送入电子束侦测器，穿透式电子显微镜(TEM)的分辨率很高，可以用来观察大约10nm(纳米)的结构，而且可以分辨不同材料组成的平面物体，也可以观察物体的横截面。

种种迹象表明，英特尔第12代Alder Lake-S处理器真的快来了（业内传闻Q3季度），目前各方爆料消息是越来越多。 英特尔第12代Alder Lake-S采用10nm SuperFin工艺，混合架构，已知酷睿i9-12900K拥有8个高性能核心和8个高能效核心，默频3.9GHz，最高可加速至5.3GHz，据说有个别型号可以达到5.5GHz。另外，支持PCIe 5.0和DDR5内存

多重光散射仪可以自动分析胶体体系的稳定性，并跟踪胶束随时间的动态尺寸变化。主机多可配置6个独立测量单元，便于节省操作时间，并可以在实验中直接比较不同样品或者同一样品的不同研究。 多重光散射仪应用多重光散射的原理，检测器所得到透射光和背散射光强度是直接由分散相的浓度（体积百分数）和平均直径（或是粒子/微滴/气泡的平均直径）决定的