光刻

资源库 / 11月22日消息，斯坦福大学的研究人员开发了一种用于纳米级打印的新材料，并用它来打印既坚固又轻便的微小晶格。 在发表在《科学》杂志上的一篇论文中，研究人员证明，这种新材料能够吸收的能量是密度相当的其他3D打印材料的两倍。未来，他们的发明可用于为易碎的卫星、无人机和微电子产品

HMDS预处理系统降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料。 通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性

UV-A型紫外辐照计（北师大） UV-A型紫外辐照计，北京师范大学UV-A型紫外辐照计，UV-A型紫外辐照计(单通道) 紫外辐照计紫外线照度计，UV-A型紫外辐照计(单通道) 紫外辐照计紫外线照度计适用于光化学、高分子材料老化、探伤、紫外光源、植物栽培、大规模集成电路光刻等领域的紫外辐照度测量工作。紫外辐照计有两个测量探头365nm探头和420nm探头，每台仪器的探*和仪器号是一一对应的不能将不同仪器的探头互换使用。 UV-A型紫外辐照计，北京师范大学UV-A型紫外辐照计，UV-A型紫外辐照计(单通道) 紫外辐照计紫外线照度计，UV-A型紫外辐照计(单通道) 紫外辐照计紫外线照度计适用于光化学、高分子材料老化、探伤、紫外光源、植物栽培、大规模集成电路光刻等领域的紫外辐照度测量工作

本文摘要：5月24日消息，目前“中国科学院福建物质结构研究所2018年仪器设备订购项目(一)”和“中国科学院上海生命科学研究院(营养与身体健康研究院)2018年仪器设备订购项目”项目已顺利完成招标工作。项目中标金额为894.3万和641.5万元。近期的科学仪器行业还有哪些订购大动作呢？中科院1535.8万订购项目顺利招标为了更进一步提高科研机构科研实力，完备对各研究所的仪器配有

随着台积电5nm制程工艺在下半年就将量产，作为最直接竞争对手的三星也终于行动了起来。近日，三星电子基于极紫外光刻技术的5nm芯片生产线已经开始建设，该生产线投资高达81亿美元，计划在明年下半年投入到运营中。 据外媒报道，三星在周四宣布这一生产线已经开始建设，生产线位于韩国京畿道平泽的三星园区，计划明年全部建成

微型化兴起于20世纪80年代末，指的是机电一体化向微型机器和微观领域发展的趋势。国外称其为微电子机械系统(MEMS)，泛指几何尺寸不超过25px3的机电一体化产品，并向微米、纳米级发展。微机电一体化产品体积小、耗能少、运动灵活，在生物医疗、军事、信息等方面具有不可比拟的优势

光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜板应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜板，如IC(Integrated Circuit，集成电路)、FPD(Flat Panel Display，平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards，印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统)等。 光刻掩膜板(又称光罩，英文为Mask Reticle)，简称掩膜板，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版

微电子行业是一个前景广阔、人才缺口巨大的行业。如何加强对学子的引导教育，鼓励更多学生积极投身微电子行业，是西安电子科技大学人才培养过程中的一个目标导向。西安电子科技大学暑期在华润微电子调研期间，通过座谈交流，双方认为“一款具有行业特色的芯片实物”，将“芯”比心，会起到一定的育人引导实效

电子工业，特别是迅速发展的亚微米工艺对生产场所空气洁净度要求特别高。在对洁净度提出更高要求方面，电子工业是促进前进的动力。集成电路光刻工艺的尺寸是推动洁净室要求向前发展的决定性因素

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