hmds

HMDS预处理系统降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料。 通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性

智能型HMDS烘箱，全自动HMDS预处理系统预处理性能更好，更加均匀；效率高一次可以处理多达4盒的芯片；更加节省药液；低液报警、防药液泄漏等具有很强的安全保护功能；，有可自动吸取添加HMDS功能，智能型的程式设定，一键完成作业。 智能型HMDS烘箱，全自动HMDS预处理系统的重要性： 光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要

凯发k8国际，致力于国产集成电路涂胶显影设备（clean track）技术研发，技术团队深耕十载。17年建立凯发k8国际，已通过国家高新企业认证。19年投资建立全资子公司沈阳凯发k8国际半导体设备有限公司

本设备适用于在涂胶前对芯片进行预处理。设备由腔体、真空、加热、充氮、加液及控制等系统组成。通过多次预抽真空，热氮加热，既能达到使硅片表面干燥、洁净的效果，又能够有效的防止硅片的氧化和杂质的扩散，并且可以通过加液系统在硅片表面开成HDMS保护膜，从而使硅片具有良好的涂胶性能

HMDS预处理烘箱价格：处理更加均匀由于它是以蒸汽的形式涂布到芯片表面上，所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。 1、预处理性能更好，由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以不会有尘埃的干扰，再者，由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，芯片在容器里先经过100℃-160℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出，而接触到大气，芯片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更好的处理效果。 2、处理更加均匀由于它是以蒸汽的形式涂布到芯片表面上，所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性

HMDS涂布机，HMDS涂胶烤箱用于光刻工艺中基板疏水化处理， HMDS 涂布的原理，较常用的黏附剂是六甲基二硅胺烷（HMDS）。在提升光刻胶的黏附性工艺中，实际上六甲基二硅烷并不是作为粘结剂所产生作用的，而是HMDS 改变了 SiO2 的界面结构，从而使晶圆的性质由亲水性表面转变为疏水性表面。 HMDS涂胶烤箱用于光刻工艺中基板疏水化处理， HMDS 涂布的原理，常用的黏附剂是六甲基二硅胺烷（HMDS）