电子工业，特别是迅速发展的亚微米工艺对生产场所空气洁净度要求特别高。在对洁净度提出更高要求方面，电子工业是促进前进的动力。集成电路光刻工艺的尺寸是推动洁净室要求向前发展的决定性因素。
电子工业，特别是迅速发展的亚微米工艺对生产场所空气洁净度要求特别高。在对洁净度提出更高要求方面，电子工业是促进前进的动力。集成电路光刻工艺的尺寸是推动洁净室要求向前发展的决定性因素。技术越进步，尺寸就越小。如果落在集成电路上的粒子大于最小光刻尺寸1%~ 2%，就会使集成电路成为废品。金属粒子、离子、细菌等都是产生废品的元凶。空气洁净度的好坏直接影响集成电路生产的成品率。同时，对微电子产品的功能要求越来越高，投资规模越来越大，就对质量水平的要求越来越严格。电子工业已成为世界上最巨大的工业部门，预计在2015年，最小的光刻尺寸可到0.05微米。微电路存贮量可达64千兆比特。