光刻

封装式压电陶瓷促动器集成高可靠性、叠堆式、低压/高压PZT压电陶瓷，外部由柱形金属外壳保护。适当的内部机械预载力可适用于高负载、高动态应用。它非常适于集成到定制型运动设备，提供纳米级分辨率，行程可长达260微米，微秒级响应时间，且外形壳体非常紧凑

10万级电子车间一般适用于电子仪器仪表、计算机房、半导体厂、印刷厂、汽车工业、航天工业、光刻、微机制造等行业，除了要空气洁净度以外，还要保证达到除静电的要求。 更新时间：2022-06-14型号：净化工程浏览量：7695 承接单向流（10级-100级）无尘室，单向流（1000级-10万级），医疗实验室，光学电子，LCD液晶制造，生物制药，精密仪器，饮料食品，PCB印刷等行业、10级～30万级。 更新时间：2022-06-14型号：千级电子元件浏览量：7675 承接单向流（10级-100级）洁净室净化车间，单向流（1000级-10万级）洁净室，医疗实验室，光学电子洁净室，LCD液晶制造洁净室，生物制药洁净室，精密仪器洁净室，饮料食品洁净室，PCB印刷等行业洁净室、10级～30万级空气净化系

在最新的2019年年报中，台积电确认5nm已经进入量产阶段，3nm正在持续研发，同时今年还会加快2nm(N2)的研发速度。 台积电透露，2019年已经在业内率先启动2nm工艺研发，并在关键的光刻技术上进行2nm以下技术开发的前期准备工作。 台积电从7nm工艺开始导入EUV极紫外光刻技术，5nm上也顺利转移，而且在3nm上展现了优异的光学能力和符合预期的良品率，所以在2nm和后续更先进工艺上，台积电将继续重点改善EUV技术的质量与成本

近年来，随着集成光子技术的发展，硫系光子学成为光子学研究的热点之一。硫系薄膜可以用来制造集成光子器件来，例如制造大面积光电二极管阵列，太阳能选择性涂层，太阳能电池，光导体和传感器。但是，随着光子器件的发展，对光子器件处理技术的要求也越来越高

激光加工是利用光的能量经过透镜聚焦后在焦点上达到很高的能量密度，靠光热效应来加工的。 激光加工不需要工具、加工速度快、表面变形小，可加工各种材料。用激光束对材料进行各种加工，如打孔、切割、划片、焊接、热处理等

作为设计和生产创新性半导体材料的全球领军企业，法国Soitec半导体公司致力于以创新研发满足客户提高产品性能、降低能耗以及综合成本的需求。Soitec重视开发突破性的制造工艺并改善现有工艺，将收入着重用于研发，持续助力行业技术创新。 目前，Soitec在全球拥有超过3500项现行专利，研发人员占比12.5%，研发投资达到年收入12%

微通道反应器的分类有哪些？ 微通道反应器是广泛使用的微反应器通过光刻、蚀刻和机械加工的方法可以方便地在硅片、玻璃、聚二甲基硅氧烷(PDMS)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等材料上制作尺寸各异的微通道。根据流体的加入方式不同微通道反应器又分为T型、水力学聚焦、同轴环管和几何结构破碎等多种类型。 相对于传统反应器微反应器内流体的流动和分散尺度要小1~2个数量级这使得微反应器具备了很多优异的性能而微流体的引入也使得微反应器内流动、传递规律和常规设备相比发生了一定的变化

在半导体制造中，光刻是最重要的一个环节，同时也是决定半导体工艺水平的关键，高端芯片要光刻多次，占到了制造成本的三分之一，目前全球的光刻机主要垄断在荷兰ASML、日本佳能、尼康手里。 国内也是有光刻机研发生产能力的，不过技术水平比较低，国内公司的光刻机主要用于90nm及以上的工艺，先进工艺上依然要依赖进口光刻机，但是这个局面有可能加速改变。 日前北京国望光学科技宣布，该公司价值10亿元的增资方案已经在北京产权交易所完成，该公司引入了中国科学院长春光学精密机械与物理研究所和中国科学院上海光学精密机械研究所作为战略投资者，两家机构以无形资产作价10亿元入股，对应持股比例为33.33%

如何对微通道反应器进行定义？ 微通道反应器是一种新型的、微型化的连续流动的管道式反应器。反应器中的微通道通过精密加工技术制造而成，特征尺寸一般在10到1000微米之间。微通道反应器的“微”不是指微反应装置的外形尺寸小或产品产量小，而是表示流体通道在微米或毫米级别

据悉复杂的电子器件通常都是用光刻工艺制作的，但是光刻工艺设备昂贵，步骤繁多，光刻模板制作也非常复杂。通常是在规模生产时采用。传统掩模板蒸镀技术步骤少，成本低，设计灵活，是科研单位和中小公司普遍采用的另一个方法