euv

晶圆代工龙头台积电董事长刘德音表示，看好全球5G发展将自下半年开始加速，对台积电7奈米及5奈米需求持续增加，将全力冲刺先进制程产能建置。台积电原本预估今年资本支出介于100～110亿美元，现在预期会调升至超过110亿美元并创新高。设备业者指出，苹果及华为海思等大客户对5奈米需求能见度提升，台积电已扩大采购设备，明年将拥有全球最大极紫外光（EUV）逻辑产能

Barra 说，看到市场对汽车需求仍强劲，但有鉴于经济成长的不确定性，通用汽车计划在 2023 年的成本预算计划中更为保守。“没人真正知道，经济将如何发展。” 先前公布的财报显示，通用汽车第三季营收报 419 亿美元，去年同期为 268 亿美元；净利报 33 亿美元，去年同期为 24 亿美元；经调整后每股获利报 2.25 美元，远高于市场预期的 1.88 美元

光罩护膜 / 薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的关键部件，指的是在光罩上展开的一层薄膜，然后用机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路，旨在使光罩免受空气中微尘或挥发性气体的污染并减少光掩模损坏，该领域目前仍由荷兰 ASML、日本三井化学主导，而韩国 S&S Tech 等后来居上者也是主要供应商之一。 韩媒 ETNews 报道称，三星电子已经自主开发出了透光率高达 88% 的 EUV 薄膜，有助于实现供应链多元化和稳定。据证实，这款透光率 88% 的 EUV 薄膜产品已经可以大规模生产

导读：芯片大师曾在日耗电百万度！“高攀不起”的EUV光刻机一文中指出，台积电目前拥有超过80台EUV光刻机，均分布在中国台湾，以每天1MW的满载功耗计算，开机一天的耗电量高达192万度，相当于一座中型城市，换算成火电每天需要消耗853吨煤！ 而进入3nm及以下节点后，不光投资额指数上涨，耗电量也继续飙升。 以1nm芯片工厂为例，3nm、5nm工厂的建设资金大约是200亿美元，单1nm工艺的投资额高达320亿美元，轻松超过2000亿元。 不仅如此，1nm工厂的耗电量也会是个麻烦，相比3nm工厂年耗电量70亿度的水平来说，1nm需要下一代EUV光刻机，总功耗将达到2MW，也就是200万瓦的水平

上海微电子：张江高科投资国产光刻机企业上海微电子，持股10% 工商信息显示，张江高科通过全资子公司张江浩成创业投资有限公司持有上海微电子装备(集团)股份有限公司(下称“上海微电子”)10.779%股权，为其第四大股东。 据悉，张江高科参与上海微电子装备的A轮融资，投资成本为2.23亿元。 目前，光刻机设备市场龙头集中EUV光刻机被ASML垄断

2月22日消息 一周前外媒报道了用于今年iPhone的A13芯片将继续用7nm工艺来制造。而台媒Digitimes今天指出，苹果在2020年会有一个较大的飞跃，该年的iPhone处理器有望采用台积电5nm工艺。 制程工艺与性能没有直接关系，但是晶体管之间的较小间隙通常意味着在相同面积中会有更多的晶体管，黑屏更好的效率就会带来性能上的提升

晶圆代工龙头台积电董事长刘德音表示，看好全球5G发展将自下半年开始加速，对台积电7奈米及5奈米需求持续增加，将全力冲刺先进制程产能建置。台积电原本预估今年资本支出介于100～110亿美元，现在预期会调升至超过110亿美元并创新高。设备业者指出，苹果及华为海思等大客户对5奈米需求能见度提升，台积电已扩大采购设备，明年将拥有全球最大极紫外光（EUV）逻辑产能

美国对中国半导体制造设备出口限制不仅影响到已就此达成协议的美国、荷兰和日本，还间接殃及包括德国在内的其他国家。德媒称，部分德企将损失惨重。 德国《青年世界报》6日报道， 来自德国巴登-符腾堡州的蔡司集团和通快集团将直接受到影响

据外媒消息透露，来自中国的集成电路制造企业中芯国际，已经正式向欧洲半导体设备制造商ASML订购一台1.2亿美元价格的EUV光刻机。 ASML公司则表示：依据瓦圣纳协定，ASML没有限制向中国客户销售EUV光刻机。 这将意味着这笔交易极有可能已经达成，中国企业将获得有史以来第一台高精度光刻机，中国的芯片产业也终于可以跨过制造工艺的限制，打造出真正的“中国芯”

众所周知，随着科技产业的快速发展，半导体芯片变得越来越重要。无论我们使用智能手机、计算机还是人工智能技术，芯片的支持几乎是不可或缺的。只有拥有强大的芯片，我们才能创造出强大的科技产品