近日有消息指，台积电将会关闭部分 euv 光刻机

近日有消息指，台积电将会关闭部分 EUV 光刻机，以以节省电力。

来自半导体业界的爆料者表示，由于先进制程的产能利用率开始下降，且经过评估后的结论是下降趋势将会持续一段时间，因此台积电计划由年底起，关闭部分EUV 设备，以节省庞大的电力开支。

据悉，台积电拥有约 80 台 EUV 光刻机，用于生产 7nm、5nm 等先进制程芯片，接下来的 9 月更会用于 3nm 制程，。不过随着 PC、手机、显卡等产品的需求下跌，先进制程的产能需求亦受到直接的影响。

相较以前的 DUV 光刻机，EUV 光刻机需用到高能量激光，且光线因多次折射以致损耗极大，早期效率仅有 0.02%，而目前量产阶段虽已大幅提升至 2% 效率，但也代表着依然是会损耗掉大部分电力。

据资料显示，EUV 光刻机每日生产需耗用 3 万度电力，一年约为 1000 万度，难怪台积电也会考虑关闭 EUV 光刻机器。