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近日有消息指，台积电将会关闭部分 EUV 光刻机，以以节省电力。 来自半导体业界的爆料者表示，由于先进制程的产能利用率开始下降，且经过评估后的结论是下降趋势将会持续一段时间，因此台积电计划由年底起，关闭部分EUV 设备，以节省庞大的电力开支。 据悉，台积电拥有约 80 台 EUV 光刻机，用于生产 7nm、5nm 等先进制程芯片，接下来的 9 月更会用于 3nm 制程，

近日，Intel 发布了第二代神经形态芯片 Loihi 2，核心面积为 31 mm²，最多可封装 100 万个人工神经元。据 Intel 早期的评估，对比第一代的标准深度网络相比，Loihi 2 每次推理运算的次数减少到原来的至少 6 生产先进制程的晶圆片，EUV 光刻机是关键之一。而荷兰 ASML 是全球唯一量产 EUV 光刻机的厂商，台积电、Samsung、Intel 的先进制程芯片都以其 EUV 曝光机生产