近日，Intel 发布了第二代神经形态芯片 Loihi 2，核心面积为 31 mm²，最多可封装 100 万个人工神经元。据 Intel 早期的评估，对比第一代的标准深度网络相比，Loihi 2 每次推理运算的次数减少到原来的至少 6
生产先进制程的晶圆片，EUV 光刻机是关键之一。而荷兰 ASML 是全球唯一量产 EUV 光刻机的厂商，台积电、Samsung、Intel 的先进制程芯片都以其 EUV 曝光机生产。目前每部第一代的 EUV 光刻机的价格近 1.5 亿美元，而第二代的产品亦已在开发阶段。 不过有传第二代 EUV 光刻机 NXE:5000 研发阶段遇到瓶颈，原预计最快 2023 年问世，现在则可能要到 2025 - 2026 年，延后近 3 年，业界忧虑将影响半导体制程开发。而近日日本最大半导体镀膜蚀