溅射

简要描述：LX-20K工业冷水机制冷量大，控温精密，是高效节能的高精度恒温制冷设备，能同时满足大功率冷却和精密温控的要求。高精度、高扬程、高流量、高洁净的循环水系统，是电镜、电子探针、溅射仪、真空炉、镀膜机、加速器等的理想配套设备。 LX-20K工业冷水机制冷量大，控温精密，是高效节能的高精度恒温制冷设备，能同时满足大功率冷却和精密温控的要求

DLC膜层和PVD镀膜区别有什么？ DLC膜层 和PVD镀膜区别主要是特性不同、方法不同和用途不同。 PVD具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性；DLC的具有硬度高，摩擦系数低，耐磨，耐腐蚀，抗粘结性好且环保等特性。 PVD的方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等；DLC的方法有真空蒸发 、溅射、等离子体辅助化学气相沉积、离子注入等

由于日常产品和工业越来越多地使用电子器件，已开发许多用于薄膜电容器的新应用，它们必须满足功能、精度和使用寿命的高标准，并直接与小型化的要求相关联。 在薄膜电容器金属化系统领域以及柔性电子产品和光学产品领域，布勒的系统是具有工艺技术的标杆。 这些高科技材料的加工需要高度创新、自动化和可重复性的生产设备

减反膜小课堂讲解：磁控溅射的溅射镀膜相关知识？ 磁控溅射的溅射镀膜你知道是什么吗？下面就跟着减反膜小编一起来简单的了解看看吧！ 溅射镀膜是一种利用高能粒子在真空中轰击靶材表面的技术，使被轰击的粒子沉积在基材上。 通常，低压惰性气体辉光放电用于产生入射离子。 阴极靶由涂层材料制成，衬底用作阳极，并将0.1-10Pa的氩气或其他惰性气体引入真空室，阴极（靶）1-3KV直流负高压或13.56 MHz射频电压产生明亮的光放电

日本爱发科真空泵是液环式真空泵中相对常见的一种。液环式真空泵是带有多叶片的转子偏心装在泵壳内。当它旋转时，把液体抛向泵壳并形成与泵壳同心的液环，液环同转子叶片形成了容积周期变化的旋转变容真空泵

张永平教授撰写的《表面科学与薄膜技术基础》一书，于2022年10月由科学出版社正式出版发行（ISBN 978-7-03-073128-9）。《表面科学与薄膜技术基础》是一部便于学生理解和掌握的基础理论图书，着重介绍基本概念、基本原理及主要应用，充分展示薄膜技术学科的深度和广度，帮助学生理解掌握这一迅速发展、充满活力的学科，为以后的工作和学习打好基础。 第一部分(第1章)讲解真空物理基础，介绍真空、气体动力学、真空获得、真空测量和真空系统等；第二部分(第2章)介绍表面科学基础，弥补材料类学生表面科学知识的不足，使得学生更好地理解后续薄膜技术知识；第三部分(第3章)介绍薄膜物理基础，包括薄膜形核和生长；第四部分(第4～6章)介绍薄膜生长技术，包括热蒸发沉积、溅射镀膜和化学气相沉积；第五部分(第7章)介绍薄膜结构，包括不同生长技术对薄膜结构和形貌的影响等；第六部分(第8章)介绍几种常见的现代表面分析技术，包括薄膜结构、形貌、成分分析的基本知识；第七部分(第9章)介绍几种常见的薄膜材料

真空镀膜主要指需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等。主要思路是分成蒸发和溅射两种。而渐变色的工艺制法一般用的磁控溅射镀膜设备，目前一些品牌产品渐变色外壳都采用了PVD真空渐变镀膜工艺

2012年3月，财政部、工业和信息化部、海关总署及国家税务总局四部委联合发布了《关于调整重大技术装备进口税收政策有关目录的通知》（下简称《通知》）。《通知》对重大技术装备进口税收政策有关装备和产品目录、进口关键零部件和原材料目录、进口不予免税的装备和产品目录等予以调整，并自2012年4月1日起执行。 在免征关税和进口环节增值税目录的调整中，新增了28项重大技术装备，海工装备、太阳能应用、LED设备等三大新兴产业成为了受益最为明显的板块

磁控溅射镀膜机广泛应用于塑料、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品、工艺品、塑料外壳、电子产品、建筑材料等行业。该系列设备主要采用DC(中频)磁控溅射，适用于铜、钛、铬、无绣花钢、镍等涂层对象，可采用溅射涂层，提高涂层的附着力、重复性、致密性和均匀性。 磁控溅射镀膜机技术的应用可以满足设计工艺的要求，节约晶体控制和光控制，为用户节约大量耗材；可以生产高折射率的氮化膜，提高膜的硬度；能适应多种用途的低温成膜；可以自动调节气流，稳定目标电压，保证成膜质量；可以选择校正板外机构

NCD给韩国客户提供了应用于半导体领域设备中使用的配件保护涂层的原子层沉积设备，此设备可以给常保养配件做防腐蚀及防等离子电弧作用的涂层。 客户使用此设备，可提高工艺的安全性和减少部分损伤，提高配件的使用寿命，减少维护周期从而降低运营费用。 在半导体产业中，生产率及成本竞争力越来越重要