刻蚀

刻蚀(硅蚀刻设备)*简单*常用分类是：干法刻蚀和湿法刻蚀。显而易见，它们的区别就在于湿法使用溶剂或溶液来进行刻蚀。 湿法刻蚀是一个纯粹的化学反应过程，是指利用溶液与预刻蚀材料之间的化学反应来去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而达到刻蚀目的

冰擦痕是由冰川夹带的块石在运动时相互摩擦或与冰川槽谷基岩摩擦形成，痕迹多呈钉子形。 冰擦痕 为冰川磨蚀、刻划的巨大刻槽。它是由流动冰川携带的石块刻蚀冰川谷两壁而成

超快激光的又一潜力应用领域！ 常规光学器件通过其构成材料的厚度或折射率来实现波前控制。英国南安普敦大学光电研究中心的一个研究小组发现，在石英玻璃中进行激光写入可以推动一种非常有前途的新型光学器件，当光波通过不同的参数转换时，可以利用几何相位（GP）偏移，例如偏振。 “自发现激光以来，研究人员已经对强激光辐射与玻璃的相互作用进行了许多研究，而玻璃是现代光学技术中的关键材料，”该小组成员Peter G. Kazansky说表示：“玻璃的应用范围很广，从用于激光焊接的高功率激光器到用于光通信的光波导

一：有机硅压敏胶粘性具有独特的性能，尤其在低温和高温方面显示出其他压敏胶粘剂所不及的特性。例如，有机硅压敏胶在-50℃下不失其柔韧性，并保持良好的粘接强度;而在200～260℃的高温下，仍然具有耐热老化和热氧化性能。有机硅压敏胶粘的耐溶剂性、耐候性、耐湿性及电性能等都是其他胶粘刑不可比拟的，同时有机硅压敏胶粘还具有对低表面能材料良好的粘附性

无线技术的飞速发展，推动了模拟信号和混合信号集成电路市场的增长。更高的频率和输出功率是此类器件的技术要求。 200 毫米晶圆制造技术的不断发展和演进，改善了器件性能和良率，以及提升了晶圆厂总体生产效率 -- 最终使半导体制造商能持续获得投资回报

北京创世威纳科技有限公司成立于2008年，现位于北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层， 拥有1800余平方米的组装、调试车间、办公区，现在我们更专注于真空等离子体技术，成为集研发、设计、生产、销售于一体的设备制造商。 公司通过了ISO质量管理体系认证，获批高新技术企业，拥有4项发明及十余项实用新型， 北京创世威纳紧跟世界技术步伐，不断提供技术、性能优良的镀膜设备、刻蚀设备、真空应用定制设备及各类真空等离子体设备， 应用于各研究院所、大专院校、企业单位。创世威纳在所有客户、合作伙伴、供应商及各界朋友的支持和帮助下走过了难忘的十年

电子束加工是利用高能量的会聚电子束的热效应或电离效应对材料进行的加工。例如对材料表面进行热处理、焊接、刻蚀、钻孔、熔炼或直接使材料升华。电子束的特点是功率密度大，能在瞬间将能量传给工件

多弧离子镀作为物理气相沉积技术的一个分支，是在真空蒸镀和真空溅射的基础上发展起来的一门新型涂层制备技术，也称为真空弧光蒸镀法，它把真空电弧放电用于电弧蒸发源。多弧离子镀膜机是一种高效、无害、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。因此在材料表面改性领域得到了广泛应用

等离子处理器由等离子发生器，气体输送管路及等离子喷头等部分组成，等离子发生器产生高压高频能量在喷嘴钢管中被激活和被控制的辉光放电中产生低温等离子体，借助压缩空气将等离子喷向工件表面，当等离子体和被处理物体表面相遇时，产生了物体变化和化学反应。表面得到了清洁，去除了碳化氢类污物，如油脂，辅助添加剂等，或产生刻蚀而粗糙，或形成致密的交联层，具有促进其粘合的作用，在粘合和油漆应用时得到了优化。在同样效果下，应用等离子体处理表面可以得到非常薄的高张力涂层表面，有利于粘结、涂覆和印刷

喷砂/抛丸加工范围： 1.预处理：电镀、喷漆、喷涂等所有被覆盖加工前喷砂处理，表面清洁，同时大大提高覆盖层附着力及防腐蚀能力。 2.清理：铸造件、冲压件、焊接件、热处理件等金属工件去氧化皮、残渣、污垢；非金属制品表面清理，陶瓷胚件表面黑斑清除及还原漆纹图案等。 3.旧件翻新：汽车、摩托车、机电设备等所有运动部件的翻新清洗