光刻

台积电董事会已经批准了大约65亿美元(折合人民币460亿元)的资本拨款投资，将用于新工艺研发与升级、新工厂建设与产能扩充等等。 台积电上个月曾披露，今年的资本支出总额将超过110亿美元，高于早先预计的100-110亿美元，具体数字会在10月份的下一次投资者大会上公布。 具体到新工艺上，台积电表示，多家大客户的5G相关方案需求强劲，为此台积电今年会进一步扩充已被吃满的7nm工艺产能，年底前将扩招3000人，并加速推进5nm工艺

轻型皮带输送机是现代工业生产中常用的一种自动化输送设备，通常用于企业生产物料的自动化搬运系统中，它的传输机构是由电力驱动和齿轮、滚筒、o型带等共同组成的，根据输送机传动方式的不同，采用的机械配件也是各不相同的，但是不管是什么机械配件却都离不开铰链。 用于输送机中的铰链种类非常多，根据柔性铰链的形状和材料的不同，其采用的加工方法也是不同的。通常情况下圆弧形柔性铰链是采用铣削加工、激光加工或者冲压的方法，但是在轻型皮带输送机中柔性铰链的设计要求则更高，尤其是它的边缘轨迹需要采用电火花的加工方式进行完善

净化工程指在一定空间范围内，将空气中的微粒子、有害空气、细菌等污染物排除，并将室内温度、洁净度、压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内的工程学科。净化工程所特别设计的房间，不论外在空气条件如何变化，室内均具有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能。 洁净室中的温湿度控制： 洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感

本课程是介绍集成电路制造工艺的初阶课程结合主讲人多年的工作经验，按照集成电路工艺模块进行讲解。主要分为光刻、干法刻蚀、离子注入、氧化与热处理、薄膜沉积、湿法清洗、化学机械抛光七个章节。每章的课程设置在20-30分钟，不求面面俱到，而是突出讲解各个模块工艺中最重要的工艺原理与过程

【香港轻新闻】据在中国《科技日报》报导，中科院上海微系统所陶虎课题组联合美国纽约州立大学石溪分校和德州大学奥斯汀分校，首次实现了基于蚕丝蛋白的高容量生物存储技术，这也是国际首块基于天然生物蛋白的数据储存器。相关成果于8月10日发表在国际知名期刊《自然纳米科技》上，相关技术也已申请发明专利。 《自然》网站发布该项研究成果的论文（网络撷图） 据介绍，这项新技术的具体原理是，基于蚕丝蛋白对红外光的选择性吸收，利用近场红外纳米光刻技术，在丝素蛋白膜上加工高密度点阵实现数据信息写入，对点阵成像实现信息读取

HMDS预处理烘箱价格：处理更加均匀由于它是以蒸汽的形式涂布到芯片表面上，所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。 1、预处理性能更好，由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以不会有尘埃的干扰，再者，由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，芯片在容器里先经过100℃-160℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出，而接触到大气，芯片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更好的处理效果。 2、处理更加均匀由于它是以蒸汽的形式涂布到芯片表面上，所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性

长期以来，我国芯片技术的发展，一直处于停滞状态，过去长期存在“造不如买，买不如租”的陈旧思维，不仅没什么收获可言，反而耽误了宝贵的发展机遇。 最近，随着美国制裁的升级，华为再次成为了行业焦点，美国无法从上游控制中国，就寻思从中游控制中国，而这透露出的“国产芯片之痛”，正是多年来国内科技企业一直无法突破的瓶颈。 目前，在芯片加工方面，台积电占据主导地位，而光刻机又是芯片生产环节的关键设备，在全球光刻机全球梯队中，荷兰ASML排名第一，是唯一一家可以生产EUV光刻机的厂家

据最新消息称，台积电将以6nm制程拿下Intel明年GPU代工订单，而他们将在今年底正式推出Xe-LP GPU，正式进入GPU市场。 据悉，台积电6nm制程技术（N6）于2020年第一季进入试产，并于年底前进入量产。随著EUV（极紫外光刻）微影技术的进一步应用，N6的逻辑密度将比N7提高18%，而N6凭借与N7完全相容的设计法则，也可大幅缩短客户产品上市的时间

日前，泰晶公司获湖北省科技厅批复，准许组建“湖北省微纳米晶体加工技术重点实验室”，成为随州市首个获批组建的省级重点实验室。 泰晶公司作为国家高新技术企业，成立9年来，一直将创新作为企业文化的核心，走出了一条适合行业现状和自身需要的自主创新之路。公司在产品的设计、开发、研制、测试等技术领域已走在行业前列，引领国内音叉晶体行业的技术发展，是国内音叉晶体及自动化晶体生产设备研发、生产重点企业

湿度控制和相对湿度对无尘车间的意义：湿度控制是无尘车间生产必需具备的重要条件，相对湿度是无尘车间、洁净室运作过程中一个常用的环境控制条件。 半导体无尘车间、洁净室中的典型的相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内，允许误差在±1%的狭窄的范围内，例如光刻区或者在远紫外线处理(DUV)区甚至更小而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。 近年，在这些规定范围中保持处理空气过程，相对湿度有一系列可能使洁净室总体表现下降的因素，其中包括： 细菌和其他生物污染霉菌，病毒，真菌，螨虫在相对湿度超过60%的环境中可以活跃地繁殖