蚀刻

市场调查机构 Gartner 16 日发表 2011 年全球半导体设备市场的开支报告，指出几乎所有领域的支出均可望出现增长，其中全球半导体资本设备将可获得 10.2% 升幅，但同时分析师也指出，半导体库存修正即将开始，而且晶圆代工产业目前出现供过于求状况，因此明年半导体资本设备支出或会减少。 报告指出，全球半导体设备市场的开支均预期出现增长，其中半导体资本支出将由 2010 年的 561 亿美元，升至 2011 年的 628 亿美元，升幅达到 11.9 ；资本设备支出将由 2010 年的 406 亿美元，到 2011 年增加至 447 亿美元，增长幅度达 10.2% ；晶圆厂设备投入则由 316 亿美元增加至 353 亿美元，升幅约 11.7% 等。 据 Gartner 表示， 2011 年支出的增长来源主要是晶圆代工的积极支出，加上整合设备制造商提升逻辑容量至先进水平，以及内存公司积极投入双重圆形曝光技术

市场调查机构 Gartner 16 日发表 2011 年全球半导体设备市场的开支报告，指出几乎所有领域的支出均可望出现增长，其中全球半导体资本设备将可获得 10.2% 升幅，但同时分析师也指出，半导体库存修正即将开始，而且晶圆代工产业目前出现供过于求状况，因此明年半导体资本设备支出或会减少。 报告指出，全球半导体设备市场的开支均预期出现增长，其中半导体资本支出将由 2010 年的 561 亿美元，升至 2011 年的 628 亿美元，升幅达到 11.9 ；资本设备支出将由 2010 年的 406 亿美元，到 2011 年增加至 447 亿美元，增长幅度达 10.2% ；晶圆厂设备投入则由 316 亿美元增加至 353 亿美元，升幅约 11.7% 等。 据 Gartner 表示， 2011 年支出的增长来源主要是晶圆代工的积极支出，加上整合设备制造商提升逻辑容量至先进水平，以及内存公司积极投入双重圆形曝光技术

白色或无色透明斜方晶系结晶略带酸味.有毒!相对密度1.52，熔点125.6℃沸点240℃ 遇潮、水分解有毒氟化物，氮氧化物和氨气体。溶于水为弱酸，可以溶解玻璃，微溶于醇，极易溶于冷水，水溶液呈强酸性，在较高温度下能升华，能腐蚀玻璃，对皮肤有腐蚀性，有毒。可用作化学试剂、玻璃蚀刻剂(参与氢氟酸并用)、发酵工业消毒剂和防腐剂、由氧化铍制金属铍的溶剂以及硅钢板的表面处理剂还用于制造陶瓷、镁合金锅炉给水系统和蒸气发生系统的清洗脱垢以及油田砂石的酸处理也用作烷基化、异构化催化剂组分

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四氟化碳是不燃烧的无色、无味的压缩气体，充装于四氟化碳钢瓶中，饱和蒸汽压约压力2000 psig。四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态，印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于四氟化碳的化学稳定性，四氟化碳可用于金属冶炼，例如：铜、不锈钢，碳钢、铝、蒙乃尔等；还可用于塑料行业；如：合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯

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