本发明提供一种以无染剂一次性阳极氧化铝形成之拟真图案的制作方法及具有该拟真图案之基板。无染剂一次性阳极氧化铝形成拟真图案的制作方法，包含有以下步骤一至五。步骤一：提供含铝基材。步骤二：提供灰阶格点光罩，并进行光阻之微影制程，使含铝基材对应灰阶格点光罩之表面设置用以反定义拟真图案之光阻保护层。步骤三：于室温下将含铝基材进行一次性阳极氧化处理，一次性阳极氧化处理包括对含铝基材施加脉冲讯号，使含铝基材表面生成多孔隙氧化铝层，脉冲讯号包含有一正电压以及一负电压。步骤四：移除光阻保护层。步骤五：将多孔隙氧化铝层表面镀上一金属层，使多孔隙氧化铝层产生拟真图案。
abstract = "本发明提供一种以无染剂一次性阳极氧化铝形成之拟真图案的制作方法及具有该拟真图案之基板。无染剂一次性阳极氧化铝形成拟真图案的制作方法，包含有以下步骤一至五。步骤一：提供含铝基材。步骤二：提供灰阶格点光罩，并进行光阻之微影制程，使含铝基材对应灰阶格点光罩之表面设置用以反定义拟真图案之光阻保护层。步骤三：于室温下将含铝基材进行一次性阳极氧化处理，一次性阳极氧化处理包括对含铝基材施加脉冲讯号，使含铝基材表面生成多孔隙氧化铝层，脉冲讯号包含有一正电压以及一负电压。步骤四：移除光阻保护层。步骤五：将多孔隙氧化铝层表面镀上一金属层，使多孔隙氧化铝层产生拟真图案。"
N2 - 本发明提供一种以无染剂一次性阳极氧化铝形成之拟真图案的制作方法及具有该拟真图案之基板。无染剂一次性阳极氧化铝形成拟真图案的制作方法，包含有以下步骤一至五。步骤一：提供含铝基材。步骤二：提供灰阶格点光罩，并进行光阻之微影制程，使含铝基材对应灰阶格点光罩之表面设置用以反定义拟真图案之光阻保护层。步骤三：于室温下将含铝基材进行一次性阳极氧化处理，一次性阳极氧化处理包括对含铝基材施加脉冲讯号，使含铝基材表面生成多孔隙氧化铝层，脉冲讯号包含有一正电压以及一负电压。步骤四：移除光阻保护层。步骤五：将多孔隙氧化铝层表面镀上一金属层，使多孔隙氧化铝层产生拟真图案。
AB - 本发明提供一种以无染剂一次性阳极氧化铝形成之拟真图案的制作方法及具有该拟真图案之基板。无染剂一次性阳极氧化铝形成拟真图案的制作方法，包含有以下步骤一至五。步骤一：提供含铝基材。步骤二：提供灰阶格点光罩，并进行光阻之微影制程，使含铝基材对应灰阶格点光罩之表面设置用以反定义拟真图案之光阻保护层。步骤三：于室温下将含铝基材进行一次性阳极氧化处理，一次性阳极氧化处理包括对含铝基材施加脉冲讯号，使含铝基材表面生成多孔隙氧化铝层，脉冲讯号包含有一正电压以及一负电压。步骤四：移除光阻保护层。步骤五：将多孔隙氧化铝层表面镀上一金属层，使多孔隙氧化铝层产生拟真图案。