离子注入

原来RTP快速退火炉是由这7个部分组成的！ RTP快速退火炉采用先进的微电脑控制系统，采用PID闭环控制温度，可以达到*的控温精度和温度均匀性，并且可配置真空腔体，也可根据用户工艺需求配置多路气体。目前设备可用于砷化镓、硅以及其他半导体材料，离子注入后的退火、硅化物的形成、欧姆接触制备以及快速氧化、快速氮化等方面。本设备具有快速升降温、慢速升降温、和长工作时间稳定等特点

因为时间及篇幅的原因，本次工业气体研究分为为两次来写。本次资料来源相对较少，没能从多个角度来论证某些数据的正确性，部分数据需要“质疑”。 1、概述：工业气体是现代工业的基础原材料，广泛应用于钢铁冶炼、石油化工、焊接及金属加工、航空航天、汽车及运输设备等领域，主要应用气体包括氧气、氩气、氮气、氢气和二氧化碳等

2017年4月13日 原荥阳市市长王新亭在中原智谷创新创业综合体亲切会见英国皇家工程院院士、英国萨里大学高新技术研究院院长拉维·席尔瓦教授一行 2017年4月13日原荥阳市市长王新亭在中原智谷创新创业综合体亲切会见英国皇家工程院院士、英国萨里大学高新技术研究院院长拉维·席尔瓦教授一行，并向拉维·席尔瓦教授颁发郑州新世纪材料基因组工程研究院名誉院长聘书。　拉维院士主要研究方向是新型纳米复合材料在纳米器件、可再生能源、生物医疗等方面的应用，在知名杂志发表论文550余篇，引用次数13000余篇，授权发明专利30项(其中4项被商业化应用)。20 2018年8月6日，郑州材料基因组研究院邵国胜院长，应英国萨里大学邀请，就双方合作构架进行深入探讨，并参观考察了萨里大学离子注入实验室 2018年8月6日，郑州材料基因组研究院邵国胜院长，应英国萨里大学邀请，就双方合作构架进行深入探讨，并参观考察了萨里大学离子注入实验室

许居衍 许居衍 (1934.7.9-- ) 微电子技术专家。福建省福州市人。1957年毕业于厦门大学

在半导体制造中，光刻工艺是最重要的步骤之一，光刻确定了半导体器件的关键尺寸。光刻工艺主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上，为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备，当掩膜板存在缺陷时，掩膜板的缺陷会在光刻工艺中转移到硅片上，最终可转化为对半导体器件的电特性产生影响，所以掩膜板的质量需要严格的控制。 在现有技术中，在掩膜板上制备出图形后，需要将掩膜板放到紫外光下用紫外光照射，从而使掩膜板固化

主要包括精密车削、镜面磨削和磨削。微车削是在精密车床上用细磨的单晶金刚石车刀进行的。切割厚度只有约1微米

本课程是介绍集成电路制造工艺的初阶课程结合主讲人多年的工作经验，按照集成电路工艺模块进行讲解。主要分为光刻、干法刻蚀、离子注入、氧化与热处理、薄膜沉积、湿法清洗、化学机械抛光七个章节。每章的课程设置在20-30分钟，不求面面俱到，而是突出讲解各个模块工艺中最重要的工艺原理与过程

氩气是目前工业上应用很广泛的稀有气体。它的性质十分不活泼，既不能燃烧，也不能助燃。在飞机制造、造船、原子能工业和机械工业部门，对特殊金属，例如铝、镁、铜及其合金和不锈钢在焊接时，往往用氩作为焊接保护气，防止焊接件被空气氧化或氮化

在芯片制造过程中，不仅需要光刻机、蚀刻机、光刻胶、硅片等核心设备或材料，还需要工业中一种称为电子气的特殊气体。特种电子气体作为产业链中的上游原料之一，参与蚀刻、清洗、外延生长、离子注入等各个环节。它们是整个芯片制造业不可或缺的，因此被称为半导体的“血液”

新华社天津１０月１７日电（记者 张建新）17日，搭载有河北工业大学理学院生物物理研究所和天津贝可尔科技有限公司育种材料的神舟十一号载人飞船在酒泉卫星发射中心成功发射。这是生物物理所继神舟八号、神舟十号、实践十号以及天宫二号之后的第五次太空搭载实验。 神舟十一号飞船这次升空要执行与天宫二号交会对接，航天员将取回河北工业大学在９月１５日搭载天宫二号空间实验室中的育种材料