化学镀

地址：广州市海珠区新港东路琶洲会展产业园海诚东街8号801 真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。 众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能

1、投加方法 ：固体可配成5%-20%的溶液后投加，也可直接投加； 2、现场使用 ：可根据现有的处理流程，在反应池工序投加； 3、使用条件 ：PH值使用范围为3-11 除磷剂是专门针对阳极氧化、化学抛光清洗、涂装前处理、磷化、电镀、化学镀等高含磷废水而开发的，解决了其它除磷剂使用量大，除磷不彻底的问题，同时优化配方还能起到调节废水PH 值，提高混凝效果，降低处理成本等优点。 1、广泛应用于阳极氧化、化学抛光清洗、涂装前处理、磷化、电镀、化学镀等高含磷废水处理。 2、具有除磷、混凝、调PH等多重功效，是一种多功能高效除磷剂； 2、人工投加要做好保护措施：戴口罩、手套

(1)电磁波屏蔽。化学镀铜的一个重要应用是作为电子元件的电磁干扰屏蔽罩。为减少电磁干扰，一些电子元件内外都需要电磁干扰屏蔽罩