衬底

中微公司还将在南昌开展与MOCVD设备相关的基础科学研究和第三代半导体应用产品开发，逐步将南昌打造成世界级MOCVD设备研发、制造及创新中心。 1400℃！这差不多是钢融化的温度，这也是生产深紫外LED外延芯片的核心装备MOCVD设备的反应腔温度。近日，在位于南昌高新区的南昌中微半导体设备有限公司，负责人告诉记者，正是因为公司最新推出的量产深紫外LED的MOCVD设备，在这样一个比普通MOCVD设备高得多的腔体温度下，也能实现对温度均匀性的精准控制，满足了深紫外LED大批量、低成本制造的一系列需求，从今年6月起，这一具有世界领先水平的核心装备从南昌走向国内外市场

溅射镀膜是一种在真空室中用高能粒子轰击靶表面的技术。靶中的原子和其他粒子被粒子动量转移击落，沉淀在衬底上形成薄膜。溅射工艺具有溅射面积小、溅射材料可控制性较强、溅射速度快等优点