基片

湿敏电阻是利用湿敏材料吸收空气中的水分而导致本身电阻值发生变化这一原理而制成的。工业上流行的湿敏电阻主要有:氯化锂湿敏电阻有机高分子膜湿敏电阻. 湿敏电阻湿敏电阻 的供应商器结构：一般由基体、电极和感湿层等组成，有的还没有防尘外壳。 基体：采用聚碳酸酯板、氧化铝、电子陶瓷等不吸水、耐高温的材料制成

光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜板应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜板，如IC(Integrated Circuit，集成电路)、FPD(Flat Panel Display，平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards，印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统)等。 光刻掩膜板(又称光罩，英文为Mask Reticle)，简称掩膜板，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版

宝特瓶的瓶胚 热塑性聚酯，具有优良的坚韧性，拉伸、抗冲击强度、耐磨性，电绝缘性。 由于具有韧性佳、质量轻、不透气、耐酸碱、耐水、耐油等特点，近年成为汽水、果汁、碳酸饮料、食用油零售包装等之常用容器。 收缩率70% 不耐热

地址：广州市海珠区新港东路琶洲会展产业园海诚东街8号801 真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。 众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能

根据《集成电路布图设计保护条例》及《集成电路布图设计保护条例实施细则》的有关规定，相关权利人需要向国家知识产权局提出登记申请，经审查登记后方可享有集成电路布图设计专有权。 一、以书面形式申请布图设计登记，应当提交： 登记申请表应当写明下列各项： 1、申请人的姓名或者名称、地址或者居住地； 7、申请人委托专利代理机构的，应当注明的有关事项；申请人未委托专利代理机构的，其联系人的姓名、地址、邮政编码及联系电话； 8、布图设计有条例第十七条所述商业利用行为的，该行为的发生日； 9、布图设计登记申请有保密信息的，含有该保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数； 10、申请人或者专利代理机构的签字或者盖章； 第一条 为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展，制定本条例。 第二条 本条例下列用语的含义： （一）集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品； （二）集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置； （三）布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织； （四）复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为； （五）商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为

HMDS真空烘箱，HMDS镀膜烘箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。 1、安全性高、更加环保，HMDS是有毒化学药品，人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激、呼吸道等，由于整个过程是在密闭的环境下完成的，所以不会有人接触到药液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机，所以也不会对环境造成污染。 3、预处理性能好，由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以不会有尘埃的干扰，再者，由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，芯片在容器里先经过100℃-160℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出，而接触到大气，芯片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更好的处理效果

滤光片是用以衰减(吸取)光波中的某些光波段或以选择小范围波段光波通过，而反射(或吸取)掉其他不希翼通过的波段。通过改变滤滤光片的结构和膜层的光学参数，可以获得各种光谱特性，使滤光片可以控制、调整和改变光波的透射、反射、偏振或相位状态。 1、在平时的使用过程中应当尽可能小心的取放，同时注意外部环境，避免衣服的拉链、钮扣等划伤到滤光片，或者把滤光片置于肮脏或有灰尘的环境中

钟表机芯真空等离子清洗 机芯表面氧化清洗机 手表配件表面等离子清洗设备广泛应用于电子工业：PCB、FPC电路板，LCD、LCM行业LED光伏照明业SMT、BGA连接器行业COG、COB、COF、ACF工艺;电子、光学、核电、钟表、机械五金、轴承等行业等加工零件的精密清洗；IC半导体（蓝宝石、外延片、硅片）封装行业化纤及纺织工业等。 钟表机芯真空等离子清洗 机芯表面氧化清洗机 手表配件表面等离子清洗设备对表面进行预处理，可以确保各类材料均可实现zui大程度的表面活化。生产时不产生有害物质，可以确保具有可靠的附着性能，而且无需使用溶剂

分光片是特殊光学加工基片高精度光学介质镀膜确保无重影高光洁度成像无黑点无杂散光等问题应用于光学仪器、生化及医疗仪器等光电传感设备中。分光片实际上也是分光棱角，他在表面上镀了一层特殊的膜，使得入射光可以反射一半透射一半，从而把一束光分为反射的一束，和透射的一束，形成两束光， 光片将部分入射光能量反射吸收相对较小的一部分量，将其余的能量透射。 分光片是可以将辐射光束分成几部分的一种光学部件

【产品名称】1200℃-PECVD管式炉系统【炉管尺寸】φ40--φ100mm【加热区】300mm/440mm 【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】PECVD系统（等离子增强化学气相沉积系统）由管式炉、真空获得、流量控制和射频电源四大模块组成， 本设备借助13.56Mhz的射频输出使含有薄膜组成原子的气体电离，在真空腔体内形成等离子体，利用等离子的强化学活性，改善反应条件，使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术，最终得到基片上沉积出所期望的薄膜。【产品名称】1700℃-CVD管式炉【炉管尺寸】φ25--φ120mm【加热区】300mm 【额定温度】1700℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。1200℃-CVD梯度管式炉 【产品名称】1200℃-CVD梯度管式炉【炉管尺寸】φ25--φ120mm【加热区】300mm+300mm 【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料