物镜

简要描述：体视显微镜，又称“实体显微镜"“立体显微镜"，是一种具有正像立体感地显微镜，被广泛地应用于材料宏观表面观察、失效分析、断口分析等工业领域。是一种具有正像立体感地目视仪器，被广泛地应用于生物学、医学、农林、工业及海洋生物各部门 1、总体性能：平场消色差物镜与大视野、高眼点目镜相组合，令视场宽阔、平坦、清晰。精密变焦旋转确保连续变倍，超长工作距离物镜，使镜下操作极为方便

通过查看热图像，可以观察到被测目标的整体温度分布状况，研究目标的发热情况，从而进行下一步工作的判断。应急管理综合行政执砝防爆热成像仪装备 应急管理综合行政执砝防爆热成像仪装备利用红外探测器和光学成像物镜接受被测目标的红外辐射能量分布图形反映到红外探测器的光敏元件上，从而获得红外热像图，这种热像图与物体表面的热分布场相对应。通俗地讲红外热像仪就是将物体发出的不可见红外能量转变为可见的热图像

上海光学XSP-BM-8C双目生物显微镜 4个物镜 放大倍数：40X-1600X广泛用于生物学、细胞学、组织学、药物化学等研究所工作，在医学上可进行三大常规检查，在学校实验室可供教学之用。 上海光学XSP-BM-8C双目生物显微镜 4个物镜产品概述： XSP-BM-8C 生物显微镜广泛用于生物学、细胞学、组织学、药物化学等研究所工作，在医学上可进行三大常规检查，在实验室可供研究所及高等学校等单位之用。 本仪器采用电光源，亮度可连续调节，铰链式镜筒30°倾斜，可360度自由转动

显微维氏硬度计在机械光学光源上采用独特精密的设计，主要具有以下几方面优点。 1.压痕成像更清晰测量更精确; 2.本机配有10倍和40倍物镜10倍测微目镜; 3.在屏幕上能显示试验方法、试验力、试验力保荷时间、测量次数等操作时只要从薄膜键盘输入压痕对角线长度内置计算器自动计算出硬度值并显示在LCD屏上; 4.拥有可供连接数码相机和CCD摄像头的螺纹接口;方便接入维氏硬度专用的测量软件系统; 5.在光源上是首家采用冷光源使用寿命10万小时也可以按用户要求选用卤素灯光源; 8.可选配克努普压头进行努氏硬度测量。 显微维氏硬度计应用范围： 炭化层和淬火硬化层的深度及梯度的硬度测试

FBJ-1多功能物证检验仪可以对工具、枪弹、指纹、足迹、爆炸物、笔迹、印章、机制文件、纸张、油墨、钞票、证券、护照、纤维、毛发、血液、分泌物、组织等各种犯罪现场痕迹物证进行细微搜索、微量物证提取及静态、动态图像采集、比对、鉴定。 专业微距变焦镜头：主物镜放大率0.7—4.5倍连续放大，Zui大视场62mm； 紫外LED光照明灯：5W。 FBJ-1多功能物证检验仪可以对工具、枪弹、指纹、足迹、爆炸物、笔迹、印章、机制文件、纸张、油墨、钞票、证券、护照、纤维、毛发、血液、分泌物、组织等各种犯罪现场痕迹物证进行细微搜索、微量物证提取及静态、动态图像采集、比对、鉴定

正置式生物荧光成像系统的基本结构是怎样的？ 正置式生物荧光成像系统是利用发光效率高的点光源，通过滤色系统发出一定波长的光（如紫外光365nm或紫蓝光420nm）作为激发，激发标本中的荧光物质发出各种颜色的光，然后通过物镜和物镜的放大观察。这样，在强反差背景下，即使荧光很微弱，也很容易识别，灵敏度很高，主要用于细胞结构、功能和化学成分的研究。 正置式生物荧光成像系统的基本结构由普通光学显微镜和一些附件（如荧光光源、激发滤光片、双色分光镜、阻挡滤光片等）组成

本产品是一款移动式微型化双光子显微成像系统，经设计用于皮肤生物细胞显微成像。双光子显微成像系统是结合了激光扫描共聚焦显微镜和双光子激发技术的一种新技术。 在高光子密度的情况下，荧光分子可以同时吸收2个长波长的光子，在经过一个很短的所谓激发态寿命的时间后，发射出一个波长较短的光子；其效果和使用一个波长为长波长一半的光子去激发荧光分子是相同的

智能化自动分拣设备是先进配送和生产制造所必须的设施条件之一，能够代替人工进行货物分类，搬运和装卸工作，提升生产和工作效率，保障了工人的人身安全，实现自动化、智能化、无人化现代生产、物流的重要组成部分。智能化自动奋进啊设备能够快捷、准确地将物品拣取出来，并根据指令自动完成分类、集中、装配等作业。 智能化自动分拣设备通过传感器、物镜、图像识别系统和多功能机械手等设备，根据图像识别系统物品形状，机械手抓取物品，实现货物快速分拣

测距仪选用是一种测量长度或者距离的工具，同时可以和测角设备或模块结合测量出角度，面积等参数。测距仪的形式很多，通常是一个长形圆筒，由物镜、目镜、显示装置（可内置）、电池等部分组成。 测距仪型号是一种测量长度或者距离的工具，同时可以和测角设备或模块结合测量出角度，面积等参数

掩膜曝光光刻机Mask Aligner 简要描述：MYCRO*荷兰光刻机（掩膜曝光光刻机Mask Aligner ），是的光刻系统，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。 一、掩膜曝光光刻机Mask Aligner产品简介： 光刻机分为半自动和全自动两大系列。MPEM系列是高精度的双向掩模对准器，在芯片的顶侧和底侧包括对准光学系统，因此可以与顶侧对准对顶侧表面进行接触，软接触和接近图案化