下光

博研认为光刻板清洗的流程以及优化，需要在实际生产运用中来完善，要保证在不影响清洗能力的情况下来优化各个工艺参数，在各种工艺清洗时的时间和光刻板的转速来缩短清洗光刻板的时间，而这个参数需要在不断地实验中完善。 光刻板清洗的流程： 在从曝光机卸载下光刻板之后，送至清洗室准备进行清洗。首先需要确认清洗机的工作状态，确认药剂的温度以及药剂是否足够等，然后再将光刻板送入清洗机，选择适当的清洗工艺进行清洗作业