感谢您对“自由软件铸造场”的支持与爱护，十多年来“自由软件铸造场”受中央研究院支持，并在资讯科学研究所以及资讯科技创新研究中心执行，现已完成阶段性的任务。 本网站预计持续维运至 2021年底，网站内容基本上不会再更动。
期望借此鼓励国内大专院校学生以及对创用CC研究有兴趣者，针对以上三大议题对社会造成的影响、反思、与启发为主题，计划专案、执行研究并完成研究报告，以期深化推广创用CC理念之目的。
◎ 研究范畴：创用CC授权／公众授权对社会各领域的影响、反思及启发。其中各领域包含文字及影音创作者、媒体、网络、电子书、法律、技术、教育领域、政府部门、新型态商业模式等。
◎ 申请资格：国内大专院校学、硕、博士生，以及对公众授权、公众领域、自由文化等议题有研究兴趣者。
◎ 面试时间：收到提案后，将择优以 E-MAIL 通知面试时间。
◎ 提案办法：请检附履历及专题研究计划书，e-mail 至 emyleo at citi.sinica.edu.tw 。更多的详细资讯请见“创用CC 2011 专题研究奖助计划提案征求”活动网页。