磁控溅射

什么磁控溅射？这个问题可能大多是朋友不知道，但是你要知道它被广泛的使用着。一般在旋转电池中使用着，而且一般的溅射用于制备金属、半导体一些材料中。使用它的优点就是简单、易于控制

脉冲式射频 GD-OES 是磁控溅射沉积的理想配套分析工具。磁控溅射是等离子气相沉积的一种，PVD镀膜机的真空室充满惰性气体（例如氩气），通过施加高电压（RF、HIPIMS 等）产生辉光放电，离子加速到目标表面和等离子涂层，氩离子溅射靶材表面材料，从而在衬底上形成膜层。可以使用其他类型的气体（例如氮气或乙炔），它们会与溅射的材料发生反应，使用这种 PVD ​​技术可以实现大面积镀膜

你知道磁控溅射镀膜系统要跟哪些行业有关联吗？ 磁控溅射镀膜系统作为工业中常见的一种的幽默设备，其种类较多，按照电源类型划分可以分为直流磁控溅射、射频磁控溅射、中频磁控溅射镀膜设备。 一般情况下磁控溅射镀膜设备采用的电源都是直流高压电源，基本上都在300到1000V之间。采用这种电源的优势就是溅射速率快、造价低、在后期保养维护上方便

真空镀膜主要指需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等。主要思路是分成蒸发和溅射两种。而渐变色的工艺制法一般用的磁控溅射镀膜设备，目前一些品牌产品渐变色外壳都采用了PVD真空渐变镀膜工艺

磁控溅射镀膜机广泛应用于塑料、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品、工艺品、塑料外壳、电子产品、建筑材料等行业。该系列设备主要采用DC(中频)磁控溅射，适用于铜、钛、铬、无绣花钢、镍等涂层对象，可采用溅射涂层，提高涂层的附着力、重复性、致密性和均匀性。 磁控溅射镀膜机技术的应用可以满足设计工艺的要求，节约晶体控制和光控制，为用户节约大量耗材；可以生产高折射率的氮化膜，提高膜的硬度；能适应多种用途的低温成膜；可以自动调节气流，稳定目标电压，保证成膜质量；可以选择校正板外机构