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硅片抛光机又称化学机械抛光机，是指通过对浆料中的化学溶液(碱性化学溶液)进行腐蚀，通过机械研磨去除浆料中的磨料，从而细微去除硅片表面材料，以提高硅片表面外观质量和微观粗糙度的工艺设备。 抛光台的上表面附着有抛光垫(抛光垫是由聚合物制成的多孔薄垫)并旋转。硅片被夹持在抛光头载体中(通过有机粘蜡或抛光头真空吸附装置)，随着抛光头载体的运动被压靠在抛光垫上并旋转和摆动