ga241
光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的
光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的,它是由一种特殊的化工合成材料,通过专用设备瞬间发出强光辐射,使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。 作为目前国际上新型的一种印章,它以制作简单快捷,印章清晰,使用寿命长,适用性强,在我国得以迅速推广,光敏印章成为我国印章行业升级换代产品,随着公安部标准GA241.9―2000的颁布实施,光敏印章已被认定为符合标准的印章。 与传统印章相比,光敏印章的特性,是除了中英文字外,可以把复杂的图案、人像甚至照片直接制作成印章,而且章面清晰,纤毫毕现