1kev

离子束刻蚀机分辨率高，可用于细小图形的蚀刻。离子束加工小孔的优点是孔壁光滑，不会对邻近区域产生应力和损伤，可以加工任何形状的小孔，小孔的形状只取决于口罩的孔型。 将样本置于真空系统中，使其表面自然形成-一种受污染的抗腐蚀剂口罩，用电子束曝光显影，形成线宽8nm的图形，然后用离子束浸蚀，离子束流密度0.1mA/cm，离子能量1keV；另一种将线宽8nm，深宽比提高到2.5:10，线宽20nm，厚度8nm

近日，中国科学院西安光机所光电子学研究室联合该所条纹相机工程中心，研制出国内首个光阴极X射线管。该光阴极X射线管出射X射线强度可调，能量范围宽（1keV～100keV），脉冲宽度窄（可达皮秒量级），该技术成功打破其他国家技术垄断。 传统的X射线管采用热阴极方式发射电子，电子再被高压电场加速轰击金属靶产生X射线