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11月24日，芬兰倍耐克公司（Beneq）李烁工程师来我所进行了“原子层沉积技术及应用”的学术介绍，并与三室师生进行了热烈的讨论与交流。 李烁工程师讲到，原子层沉积（atomic layer deposition，ALD），最初于70年代由芬兰科学家提出，并用于平板显示器所需的多晶荧光材料ZnS:Mn以及非晶Al2O3绝缘膜的研制。多年来，原子层淀积技术的应用范围从液晶显示面板到工业涂层等多种领域