vapor

PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。 2.成都PVD涂层技术都有那些分类？ PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。 3: PVD涂层的具体原理是什么？ 物理气相沉积是一种物理气相反应生长法，沉积过程是在真空或低气气体放电条件下，涂层物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层

PVD(Physical Vapor Deposition)应用于薄膜制程是近来促进3C产业进步的关键性技术之一，随着未来电子资讯产品发展尺寸微小化、功能无限化、新材料的多样化，PVD的应用领域也随之更加广泛。 鑫昌光电(以下简称为TCMC)，设立于2012年2月。母公司为台湾鑫科材料科技股份有限公司，鑫科承袭中钢集团在材料冶金的专业，再加上十多年来的光 电薄膜耕耘，累积了厚实的能力与经验，着眼于中国光电产业迅速扩增及内外销市场高度成长，故中钢在集团资源分布及全球布局的考量下，由台湾鑫科材料 100%持股的鑫昌光电，期待能在中国产业链中做出Z大的贡献

表面处理是通过物理或化学手段，将另一种金属附着在工件表面上，或者只是改变工件材料表面物理性质或化学性质，以满足对工件不同的使用目的。 PVD：即物理气相沉积（Physical Vapor Deposition）向真空装置中通入氩气等惰性气体，在辉光放电和等离子体放电的作用下使镀料温度上升，蒸发出气相镀料，此金属蒸气被辉光放电的阴极加速，并以很高的能量轰击产品表面，从而形成覆盖层的一种镀覆方法。 PVD镀膜的种类：其种类有TiN、TiCN、CrN、DLC、多层镀钛等，在模具行业使用最多的是钛镀膜