光刻

针对半导体行业有机废气和毒性气体的治理，我们尝试使用低温等离子废气处理技术，处理效果相较之前的废气治理技术有了一定的提升。 半导体企业使用了大量繁多的有机物，而污染物对环境的影响比较大。半导体行业产生的有机废气，主要可以分为，半导体制造工艺产生的有机废气，和半导体封装工艺产生的有机废气

作为摩尔定律的提出者，Intel也是最坚定的摩尔定律捍卫者，多次表示半导体工艺还会继续提升下去，在现有4年掌握5代CPU工艺之后，Intel还启动了未来两代的CPU工艺研发，目标逼近1nm了。 Intel的5代CPU工艺分别是Intel 7、Intel 4、Intel 3、Intel 20A及Intel 18A，其中Intel 7在2021年的12代酷睿上首发了，Intel 4会在下半年的14代酷睿上首发，还会首次用上EUV光刻工艺。 Intel 3是Intel 4的改良版，Intel 20A及之后的18A则是重大升级，相当于友商的2nm、1.8nm节点， 将在2024年上半年及下半年量产，2025年将重新夺回半导体工艺的领导地位

光掩膜一般也称光罩，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。光掩膜主要由两部分组成：基板和不透光材料。作为半导体、液晶显示器制造过程中转移电路图形“底片”的高精密工具，光掩膜是半导体制程中的一环

增材制造业很快就在汽车工业、医疗技术和消费品业等许多先驱行业中成熟起来，成为对传统制造方法的全面补充。公司使用3D打印技术从其提供的诸多经济优势（例如提高生产率和降低成本）中受益，同时也得益于各种方法和材料的采用。 德派为各种3D液体印刷工艺提供特殊的计量和混合系统

当今社会信息技术日新月异。互联网，云计算，大数据，人工智能等新技术充斥到社会各个角落。工业生产和日常生活中的智能机器人、家用电器、自动售货机、手机、电脑以及各类传媒载体纷纷开始了“触觉革命”

科研经费少的年代，就没什么好争的，大家安心做科研。 现在科研经费快速递增， “打招呼”“走关系”等不正之风却愈演愈烈。我的观点是，经费猛于虎，管不好、用不好会反噬科研

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双频激光干涉仪是一种高精度、高测量范围的测长仪，由于其优良的性能，被广泛地应用于多种场合，特别是对长、大位移的测量。对于长度的测量，一般200米以上的测量都是一般的长度测量，3m以下的长度测量是3m3~200m的测量称为大尺寸测量。在一般长度测量中，被广泛使用

通讯/办公地址：山东大学青岛校区第周苑D楼（原N5楼）211 冯德军：男，山东大学教授、南开大学博士、庆熙大学和东京大学博士后、硕士生导师，长期从事光纤通信器件、光纤传感系统、微纳智能光刻、石墨烯应用、海洋传感器设计、涡旋光场调控、红外光谱探测、水下激光原位测量等方向的研究工作，研究领域包含光学、微电子学、物理学、力学等。先后作为课题负责人主持承担了国家、省部级以及国防课题十余项，以及多项企业委托的应用开发课题。 相关研究成果以第一作者或通讯作者发表SCI、EI论文近百篇，获发明专利三十余项，培养硕士研究生三十余人

根据印刷材料的用途进行分类，如书籍印刷、报纸印刷、广告印刷、钞票印刷、地图印刷、文具印刷、包装印刷、特殊印刷等。 （1） 过去书籍和杂志是用活版印刷的。越来越多的人逐渐使用平版印刷术