multilayer
美国Argonne国家实验室研发出一个新的元件 可以使X光聚焦聚得更锐利. 由于X光的能量很高 所以较难聚焦. 若以反射的方式 其反射角仅限于很小的角度(小于十度). 若以折射的方式 其折射率又非常接近1 很难制造出一个高效率的透镜. 而若以绕射的方式 其所需要的变化宽度的厚光栅又不容易制造. Argonne元件是使用绕射的方式来制造X光透镜. 它是在基板上交替沉积厚度逐渐减少的硅层及金属层 并切割成适当的厚度. 当X光照在这样的结构时 它们就好像看到了透明与不透明交替的光栅图样(也就是线性波带片linear zone plate). Argonne元件之所以可以成功地将X光聚焦 是因为透过沉积的方式每一层的位置可以被控制在奈米级的精准度 而其宽度也可被切割成任意的长度(微米等级). 至今的测试结果 一片这样的波片板 稍微倾斜于同步辐射光源所发出的X光 即可以使两万电子伏特的X光聚成只有30奈米宽的线 比之前的方法所可得到结果好太多了. 根据Argonne的研究员Brian Stephenson表示 这种称为Multilayer Laue Lens的元件在理想的情况下 应可以将X光聚成小于1奈米宽的点. 而这种X光透镜的可能可以被用在全场显微术(full-field microscopy )(用来增强光影像的讯号)或扫描探针显微术(Scanning Probe Microscopy). Zone plate
上海伯东代理多层膜磁控溅镀设备 Multilayer sputter 拥有基板公自转机构 搭配美国 KRI 离子源可实现精准的多层膜结构并可以一次批量生产 广泛应用于半导体 纳米科技 太阳能电池 科研等行业 氧化物 氮化物和金属材料的研究等. 多层膜的结构广泛用于各个领域. 在单一材料薄膜无法满足所需规格的精密系统中 高质量多层膜的作用至关重要. 因此 新材料的开发和薄膜的精确控制制程已成为当前多层薄膜研究的重要方向. 上海伯东代理多层膜磁控溅镀设备 Multilayer sputter 拥有基板公自转机构 搭配美国 KRI 离子源可实现精准的多层膜结构并可以一次批量生产 广泛应用于半导体 纳米科技 太阳能电池 科研等行业 氧化物 氮化物和金属材料的研究等.