气相

臧平安，男，1936年生，高级工程师，上海市化学化工学会、金属学会、环保学会会员，现任上海安杰环保科技有限公司总工程师，气相分子吸收光谱测量领域杰出带头人。 1987年发现和研究国外从1976年开始尝试而国内几乎是空白的“气相分子吸收光谱分析”。 1988年和1990年先后发明了亚硝酸盐氮和硝酸盐氮的气相分子吸收光谱分析的发明专利方法

工业废气处理中总碳氢化合物它又称总烃，一般指含油1~8个碳原子的烃类物质。我国对于工业废气处理中总碳氢化合物采用氢火焰气相色谱法测定大气中的总碳氢化合物，其原理是使空气样品在载气流中，通过空心阻力柱后，进入氢火焰离子化鉴定器进行测定。空气中总碳氢化合物的浓度，以甲烷的浓度（mg/m³）计算 工业废气处理中总碳氢化合物的烯烃是引起光化学烟雾的重要因素

spContent=“民以食为天，食以安为先”，农产品质量、农产品安全关系着人民的健康，乃至生命。如何科学地评价农产品的质量？如何检测农产品的安全性？农产品质量检测技术课程将带您去解决舌尖上的营养、安全问题。 《农产品质量检测技术》系统地讲授农产品检测的基础知识、农产品营养成分的检测、农产品中有毒有害物质检测的原理和方法，以及在具体农产品中样品采集、制备、处理、保存的原则和方法，各检测指标的测定方法和检测过程中的注意事项

液相色谱（HPLC）也叫高压液相色谱、高速液相色谱、高分离度液相色谱等，是在传统液相色谱基础上，于1955年后随着气相色谱理论发展而逐渐发展起来的。现在液相色谱法在色谱的科学研究、仪器先进程度、实际操作等各方面已取得长远发展。液相色谱技术被大家应用在医学、药学、化学、生化、工业、农业、环保、食品、商检和法检各个领域

我国是一个煤炭生产和消费大国，煤的燃烧排放了大量二氧化硫、氮氧化物、重金属汞等大气污染物，这些大气污染物引发了严重的环境污染，造成了城市酸雨、光化学烟雾、大气雾霾、重金属超标等重大环境危害。 本技术着眼于开发满足排放标准前提下的经济、高效、绿色的烟气一体化脱硫脱硝脱汞新工艺，利用类气相氧化剂实现NO和Hg0预氧化，生成高价溶于水的氧化物如NO2和Hg2+，从而在湿法脱硫系统（WFGD）中与SO2同时被脱除。 本技术是基于现有的钙基湿法脱硫技术在国内广泛运用的优势，开发适合我国国情的燃煤锅炉烟气中二氧化硫、氮氧化物和汞同时集成的脱除技术

农药残留检测仪是一种现代化的检测设备，用于检测食品、农产品和环境中的农药残留量。其具有快速、准确和灵敏度高的特点，对于保障食品安全和环境保护具有重要作用。主要由检测系统、数据处理系统和显示系统三部分组成

高剪切乳化机是集混合、分散、细化、溶解、均质、乳化六大功能特点，其通常安装于釜体、移动支架或固定式支架上，与敞口容器配合使用。高剪切乳化机的转子与定子精密配合，通过高速旋转所产生的高剪切线速度和高频机械效应带来的机械剪切及液压剪切力，确保物料在每分钟内承受几十万次的剪切，物料在高剪切乳化机的定转子精密间隙中受到强烈的离心挤压、剪切、喷射、液层摩擦、碰撞、撕裂细化及湍流、紊流、涡流等复杂液流综合作用下，使不相溶的液相、液气相、液固相在相应成熟工艺条件的共同作用下，瞬间均匀细化地混合、分散、均质、乳化，如此地循环往复，获得高品质的产品。 1．高剪切混合乳化可固定安装在釜上，也可支架固定； 2．具有处理量大，能耗小，适合于工业化连续化生产； 3．处理过的物料具有颗粒分布范围窄，均匀度好的特点； 4．装拆简单，易清理，满足不同场合的清理需要； 5．具有一定的自吸力和低扬程输送功能； 7．无死角，物料100%通过分散乳化； 8．噪音的低，运转平稳，维护方便

随着社会进步，使得人们对健康养生以及环境卫生的关注度越来越高。当下，我国的环境状态不容乐观，水、空气被污染，树木被大量砍伐用来建筑，这令不少爱护环境的人担忧，果壳活性炭的诞生，给环境行业带来了新的希望。果壳活性炭选用高强度果核壳为原料，用特殊载银工艺精制而成，广泛用于净水器、矿泉壶、饮水机等净化设备中，果壳活性炭作为活性炭家族中的重要一员，在生产生活过程中发挥着重要的作用，就当前市场中供应的果壳活性炭产品而言，主要要以下几种用途： 首先，可完成生活、工业水质的净化处置

一般不需要对样品进行复杂的预处理，通常分析一个多组分试样只需几分钟至几十分钟时间，尤其仪器配有色谱数据处理机工作时，试样出峰完毕，随即可以获得分析结果的数据。 气相色谱法不仅可以分析气体样品，而且可以分析易挥发或可以转化为易挥发的液体和固体样品。采用程序升温色谱时可测液体、固体样品中各馏分

PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。 2.成都PVD涂层技术都有那些分类？ PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。 3: PVD涂层的具体原理是什么？ 物理气相沉积是一种物理气相反应生长法，沉积过程是在真空或低气气体放电条件下，涂层物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层