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主营：中频电源、中频磁控溅射电源、偏压电源、双极脉冲偏压电源、直流磁控溅射电源、磁控溅射电源、高功率脉冲磁控溅射电源、HPPMS 磁控溅射成膜工艺使用的电源为直流磁控溅射电源、中频磁控溅射电源、单极脉冲磁控溅射电源，溅射材料主要以中性原子/自由基为主，溅射机构为动能电源电压范围在Ikv以下，离子能量只有几个电子伏左右，形成的等离子体离解率低，可控性差，难以优化沉积膜的质量和性能，那么，下面一起了解下高功率脉冲磁控溅射电源的制作方法吧! 高功率脉冲磁控溅射电源使用矩形波电压的脉冲电源代替传统的直流电源进行磁控溅射沉积。 高功率脉冲磁控溅射电源技术可以有效地抑制电弧的产生，消除由此产生的薄膜缺陷，同时提高溅射沉积速度，降低沉积温度等一系列显着的优点，那么，下面一起了解下高功率脉冲磁控溅射电源的工作原理和工作方式吧! 中频电源、中频磁控溅射电源、偏压电源、双极脉冲偏压电源、直流磁控溅射电源、磁控溅射电源、高功率脉冲磁控溅射电源、HPPMS 多年来，标先始终专注于真空等离子、电化学等材料表面处理领域的电子设备及相关工艺研究。 坚持以科技创新来推动产品更新，有力的提升了公司在这一领域的地位