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实验室培育钻石的生长分为高温高压法(HPHT)及化学气相沉积法(CVD) 高温高压法(HPHT)是人为模拟天然钻石在地下200公里深处的温度、压力，将钻石晶种放置于大型的机力压机中施加高压以及高温。机器能够产生非常高的压力和温度。温度约为1300度摄氏至1500度摄氏，压力约为40000至60000个大气压力

近年来，代谢综合征的发生率呈逐渐增加趋势。代谢综合征是多种代谢成分异常聚集的病理状态，是一组复杂的代谢紊乱症候群，是导致糖尿病(DM)以及心脑血管疾病（CVD）的危险因素，目前已成为心内科和内分泌科医师共同关注的热点。由于代谢综合征中的每一种成分都是心血管病的危险因素，所以有人将代谢综合征称为“死亡四重奏”（中心性肥胖、高血糖、高甘油三酯血症和高血压），必须进行干预

【康沃真空网】磁控溅射方法可用于制备多种材料，如金属、半导体、绝缘子等。它具有设备简单、易于控制、涂覆面积大、附着力强等优点。磁控溅射发展至今，除了上述一般溅射方法的优点外，还实现了高速、低温、低损伤

北极星太阳能光伏网讯:美国对华光伏双反正在进入五年复审。据悉，针对中国光伏产品的双反法令将有希望终止。 美国的光伏双反措施已困扰我国光伏行业八年之久，早在2011年11月，美国商务部宣布将对中国输美太阳能电池展开反倾销和反补贴“双反”调查，从此拉开了美国对华光伏双反大幕

表面污染一直是纳米科技中非常关注的问题，会影响到一切与表界面相关的性质。对于石墨烯等二维材料，可以认为它们只有表面，因此表面污染会严重影响它们的性能。近年来发展的表面清洁方法大多聚焦于转移过程引入的高聚物污染，仍然不能有效地实现大面积超洁净石墨烯薄膜的制备

什么是碳化物切割插件？ 碳化物插入物是可更换的，通常可索引的水泥碳化物，用于加工钢，铸铁，高温合金和非有产质材料。碳化物插件可以更快地加工，并在金属零件上保留更好的装饰。与高速钢工具相比，碳化物插入物可以承受更高的温度

原子层沉积前驱体往往都是金属有机化合物，合适的前驱体种类较少而且价格昂贵；传统热原子层沉积技术因需要长时间的惰气吹扫以保证随后的表面自限制薄膜生长，沉积速率较慢，不适合大规模工业生产； 随着原子层沉积技术与其他先进技术不断融合以及人们对原子层沉积设备的不断改进，诸如“等离子体增强原子层沉积技术”、“空间式原子层沉积技术”、“流化床原子层沉积技术”等新型原子层沉积技术逐渐出现并在一定程度上有效解决了传统热原子层沉积技术所面临的诸多难题。 一套成熟的空间式原子层沉积设备需保证每小时超过3000片156×156mm2规格Si片的生产能力。由于空间式原子层沉积设备中沉积速率不再受限于单个循环步骤的累计时间，仅取决于衬底或前驱体喷嘴在两个半反应区间移动所需的时间，而薄膜厚度也仅取决于喷头上所集成的沉积单元数量

TiN是一种通用型PVD涂层，可以进步刀具硬度并具有较高的氧化温度。 该涂层用于高速钢切削刀具或成形工具可获得很不错的加工效果。 TiAlN/AlTiN涂层中形成的氧化铝层可以有效进步刀具的高温加工寿命

“2019集成电路产业链协同创新发展交流会暨集成电路产业技术创新联盟大会”于2月23日召开。会上，集成电路产业技术创新联盟组织颁发了第二届集成电路产业技术创新奖，对在产业技术创新、成果产业化推进、产业链合作等方面取得突出成绩的团队和 个人进行了表彰。 北方华创荣获三项奖励：公司副董事长耿锦启荣获“产业创新突出贡献奖”；12英寸双脉冲刻蚀机NMC612D开发团队被授予“技术创新奖”；创硅外延CVD设备研发团队被授予“成 果产业化奖”

简要描述：卧式气氛管式炉主要用途：陶瓷冶金电子玻璃化工机械耐火材料特种材料建材高校科研院所工矿企业做粉末焙烧陶瓷烧结高温实验材料处理质高校科研院所工矿企业做高温气氛烧结气氛还原CVD实验真空退火等。 是这款卧式气氛管式炉额定温度分别为600℃800℃1000℃1100℃1200℃使用不同的加热元件型号齐全操作简单控温精度高保温效果好温度范围大炉膛温度均匀性高温区多可选配气氛抽真空炉型等。 1.3炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料双层炉壳间配有风冷系统能快速升降温该炉具有温场均衡表面温度低升降温度速率快节能等优点