Applied Nanotools为最高分辨率应用提供X射线，EUV和可见光显微镜的校准标准。 这些高质量的光学元件包括各种校准元件，可在以下SEM图像中看到：

ANT校准标准设计用于具有纳米级特征的X射线成像系统的最高分辨率要求。适用于软X射线和硬X射线机制以及光学设置。

Nested Ls

嵌套的Ls或弯头允许高分辨率测量，保证间距和效率。在高分辨率标准下低至15 nm半间距。

Siemen star

该图案允许校准和准确比较X射线与其他成像方法的光学分辨率。

NanoUSAF 1951

校准标准在标准的5 mm x 5 mm框架上于坚固的低应力氮化硅膜上制造。 熔融石英基板可用于具有铬特征的光学显微镜。

校准标准在标准的5 mm x 5 mm框架上于坚固的低应力氮化硅膜上制造。

定制设计可添加具有高分辨率功能的设施徽标（建议最小元件尺寸为50 nm）。 必须以GDSII，EPS或矢量格式提供图形以获得**分辨率。如果您需要有关徽标提交的帮助，请与我们联系。