半导体化学品主要包括蚀刻液、剥离液、超高纯试剂、清洗液和含氟功能材料等系列产品，广泛应用于显示面板（含tft-lcd和oled）、ic集成电路、太阳能光伏等多个领域，是生产制程中的光刻、显影、蚀刻、剥离、清洗等制造工艺的关键化学品材料，对芯片的良率提升、显示面板画质的清晰度、硅片电池的使用寿命等起着重要的作用。
新宙邦凭借二十余年深耕精细电子化学品的经验积累和技术优势，完成了高纯试剂的技术突破，在品质上达到了行业最高标准，稳定交付行业龙头ic晶圆制造企业。蚀刻液系列产品，实现进口替代，稳定交付行业高世代线面板厂商。
未来新宙邦将充分利用自身技术、资源、地域等优势，积极布局半导体领域精细化学品的研发开拓，解决“卡脖子”问题，填补国内空白，为中国半导体行业贡献力量。
蚀刻液系列产品主要用于面板蚀刻制程，将光刻胶上的微图形转移到光刻胶下面的各层材料上。如，tft-lcd/oled的蚀刻制程。性能优异、长寿命、安全。
剥离液系列产品主要用于平板显示面板制造array工艺中光刻胶剥离。产品性能优异，安全环保，可根据不同应用需求定制化开发。
高纯化学品系列产品主要用于晶圆清洗、光刻、腐蚀等工序中，主要系列有双氧水、氨水等，均达到g5标准要求，高纯度、高洁净度，技术先进，成熟稳定。
清洗剂系列产品主要用于晶圆制造、封装，oled等制程中的清洗工艺，能去除晶圆、oled表面杂质和蚀刻后残留物质，保证产品的洁净度。如，oled mask清洗、晶圆前段清洗工艺、光刻胶残留清洗。
冷却试剂系列产品主要用于晶圆制造的机台冷却，高效、不可燃，环境友好，性价比高，稳定性好。
含氟功能材料系列产品主要包括光刻胶及透明聚酰亚胺的中间体，用于光刻胶及透明聚酰亚胺的合成。